[发明专利]包含离子浓度依赖性的抗原结合结构域的抗体，FC区变体，IL‑8‑结合抗体，及其应用

权利要求书

1.一种抗体，其包含抗原结合结构域，所述抗原结合结构域的抗原结合活性根据离子浓度条件而改变，其中其等电点(pI)通过修饰可以暴露在所述抗体的表面上的至少一个氨基酸残基而提高。

2.权利要求1所述的抗体，其中所述抗原是可溶性抗原。

3.权利要求1或2所述的抗体，其中所述抗原结合结构域是这样的结构域：其在高离子浓度条件下的抗原结合活性高于在低离子浓度条件下的抗原结合活性。

4.权利要求1至3中任一项所述的抗体，其中所述离子浓度是氢离子浓度(pH)或钙离子浓度。

5.权利要求4所述的抗体，其中其对于抗原在酸性pH范围内与在中性pH范围内的KD比，KD(酸性pH范围)/KD(中性pH范围)是2或更高。

6.权利要求1至5中任一项所述的抗体，其与修饰前的抗体相比能够促进抗原从血浆的去除，或其中与修饰前的抗体相比，所述抗体的胞外基质结合活性增强。

7.权利要求1至6中任一项所述的抗体，其中所述氨基酸残基修饰是

(a)氨基酸残基置换；

(b)在所述抗原结合结构域中的组氨酸置换或插入；或

(c)选自由以下组成的组的成员：

(i)用不带电的氨基酸残基置换带负电的氨基酸残基，

(ii)用带正电的氨基酸残基置换带负电的氨基酸残基，和

(iii)用带正电的氨基酸残基置换不带电的氨基酸残基。

8.权利要求1至7中任一项所述的抗体，其中所述抗体包含可变区和/或恒定区，并且所述氨基酸残基修饰是在所述可变区和/或所述恒定区中的氨基酸残基修饰。

9.权利要求8所述的抗体，其中所述可变区包含一个或多个互补决定区(CDR(s))和/或一个或多个框架区(FR(s))。

10.权利要求9所述的抗体，其中所述可变区包含重链可变区和/或轻链可变区并且在CDR或FR中的选自由以下组成的组的位置处的至少一个氨基酸残基被修饰：

根据Kabat编号

(a)所述重链可变区的FR中的位置1，3，5，8，10，12，13，15，16，18，19，23，25，26，39，41，42，43，44，46，68，71，72，73，75，76，77，81，82，82a，82b，83，84，85，86，105，108，110，和112；

(b)所述重链可变区的CDR中的位置31，61，62，63，64，65，和97；

(c)所述轻链可变区的FR中的位置1，3，7，8，9，11，12，16，17，18，20，22，37，38，39，41，42，43，45，46，49，57，60，63，65，66，68，69，70，74，76，77，79，80，81，85，100，103，105，106，107，和108；和

(d)所述轻链可变区的CDR中的位置24，25，26，27，52，53，54，55，和56。

11.权利要求10所述的抗体，其中CDR和/或FR中的选自由以下组成的组的位置处的至少一个氨基酸残基被修饰：

(a)所述重链可变区的FR中的位置8，10，12，13，15，16，18，23，39，41，43，44，77，82，82a，82b，83，84，85，和105；

(b)所述重链可变区的CDR中的位置31，61，62，63，64，65，和97；

(c)所述轻链可变区的FR中的位置16，18，37，41，42，45，65，69，74，76，77，79，和107；和

(d)所述轻链可变区的CDR中的位置24，25，26，27，52，53，54，55，和56。