[发明专利]用于进行滑动磁性颗粒分离的样品处理系统

权利要求书

1.一种样品处理系统(100)，所述样品处理系统包括：

第一基座(102)，所述第一基座包括上表面(117)；

样品板(106)，所述样品板被安装到所述上表面(117)，所述样品板包括：

顶部表面(710)；

多个凹槽(712)，所述多个凹槽被安装到所述顶部表面(710)，每个凹槽包括凹槽底部表面(716)和从所述凹槽底部表面向上延伸的凹槽壁(714)，

多个储液部(718)，所述多个储液部被安装到所述顶部表面(710)，每个储液部(718)包括储液部底部表面(722)、从所述储液部底部表面(722)的第一侧延伸的储液部壁(720)，以及从所述储液部底部表面(722)的第二侧延伸的所述凹槽壁(714)，其中，所述多个储液部中的每个储液部(718)包围所述多个凹槽中的相应的凹槽(712)；以及

滑动头(104)，所述滑动头被安装到所述第一基座(102)，以沿平移方向在所述样品板(106)上方平移，所述滑动头包括：

内部壳体(134)，所述内部壳体包括第二基座(300)，

磁体(166)，所述磁体被安装在所述内部壳体(134)中，以延伸穿过所述第二基座(300)，以及

适配器(138)，所述适配器被安装到所述第二基座。

2.根据权利要求1所述的样品处理系统，其中，所述凹槽壁(714)在所述顶部表面(710)上方延伸一高度，以提供由所述凹槽壁(714)容纳的液体的弯液面的到所述顶部表面(710)上方的选定高度。

3.根据权利要求2所述的样品处理系统，其中，所述凹槽壁(714)延伸到所述顶部表面(710)上方至少约0.02英寸。

4.根据权利要求2所述的样品处理系统，其中，所述凹槽壁(714)在所述顶部表面(710)下方延伸。

5.根据权利要求2所述的样品处理系统，其中，所述储液部壁(720)在所述顶部表面(710)下方延伸，但不超过所述顶部表面(710)。

6.根据权利要求5所述的样品处理系统，其中，所述凹槽壁在所述顶部表面下方延伸。

7.根据权利要求1所述的样品处理系统，其中，所述多个凹槽(712)包括至少一个具有椭圆形形状的凹槽。

8.根据权利要求1所述的样品处理系统，其中，所述多个凹槽(712)包括具有第一形状的第一凹槽和具有第二形状的第二凹槽，其中，所述第一形状不同于所述第二形状。

9.根据权利要求8所述的样品处理系统，其中，所述第一形状是椭圆形并且所述第二形状是圆形。

10.根据权利要求1所述的样品处理系统，其中，所述多个凹槽(712)包括被构造成容纳第一体积的液体的第一凹槽和被构造成容纳第二体积的液体的第二凹槽。

11.根据权利要求10所述的样品处理系统，其中，所述多个凹槽(712)进一步包括被构造成容纳第三体积的液体的第三凹槽。

12.根据权利要求1所述的样品处理系统，其中，所述多个凹槽(712)和所述多个储液部(718)被以网格图案的形式布置，所述网格图案包括多个行和多个列。

13.根据权利要求12所述的样品处理系统，其中，在第一列中的凹槽(712)各自具有第一形状，在第二列中的凹槽(712)各自具有第二形状，其中，所述第一形状不同于所述第二形状。

14.根据权利要求13所述的样品处理系统，其中，所述第一形状是椭圆形并且所述第二形状是圆形。