[发明专利]在抗蚀剂应用中作为光酸生成剂的磺酸衍生化合物

权利要求书

1.一种磺酸衍生化合物，其选自由以下组成的群组：

2.一种光阻剂组合物，其包含：

(i)至少一种根据权利要求1所述的光酸生成剂；

(ii)至少一种聚合物或共聚物，其能够在酸存在下被赋予在水溶液中的经改变的溶解度；

(iii)有机溶剂；和，任选地，

(iv)添加剂。

3.根据权利要求2所述的组合物，其中所述至少一种有机溶剂(iii)选自由酮、醚和酯组成的群组。

4.根据权利要求2所述的组合物，其包含：

0.05wt.％到15wt.％的根据权利要求1所述的化合物；

5wt.％到50wt.％的所述至少一种聚合物或共聚物；

0wt.％到10wt.％的所述添加剂；和

剩余部分的有机溶剂。

5.一种在衬底表面上产生图案化结构的方法，所述方法包含以下步骤：

(a)在所述衬底表面上涂覆一层根据权利要求2到4中任一权利要求所述的组合物并且至少部分去除有机溶剂(iv)；

(b)将所述层曝露于电磁辐射，由此于曝露于所述电磁辐射的区域中从化合物(i)释放出酸；

(c)任选地对所述层进行加热以在其中释放有所述酸的区域中赋予化合物(ii)在水溶液中的增加的溶解度；和

(d)在这些区域中用水溶液至少部分去除所述层。

6.一种根据权利要求1所述的化合物的用途，其用于官能团的光诱导聚合、光诱导交联、光诱导降解、光诱导脱除保护基、光诱导色彩改变或光诱导转化或其中的至少两种的任意组合。