[发明专利]多层体及其制备方法有效
申请号: | 201680005792.9 | 申请日: | 2016-01-11 |
公开(公告)号: | CN107107648B | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | H·沃尔特;L·布雷姆;S·玛德;W·R·汤普金;E·A·乌纳尔 | 申请(专利权)人: | 雷恩哈德库兹基金两合公司;OVD基尼格拉姆股份公司 |
主分类号: | B42D25/23 | 分类号: | B42D25/23;B42D25/24;B42D25/29;B42D25/324;B42D25/328;B42D25/351;B42D25/45 |
代理公司: | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 江磊;郭辉 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多层 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于制造多层体的方法,所述方法包括以下步骤:
a)提供具有复制层的基材膜;
b)模塑以三维自由形态表面的形式向观察者显现的表面凹凸到所述复制层的表面中,所述表面凹凸通过具有产生放大、缩小、或变形效果的类透镜设计的结构形成;
c)将第一金属层施加到形成表面凹凸的复制层表面上;
d)将至少部分透明的间隔层以湿化学方式施加到所述第一金属层上;
e)将第二金属层施加到所述间隔层上,
其中,两层金属层中的至少一层以半透明的形式形成,
其中,所述间隔层背向复制层的表面中形成进一步的表面凹凸,其中表面凹凸和进一步的表面凹凸至少部分相关联,
或者
a)提供具有复制层的基材膜;
b)模塑以三维自由形态表面的形式向观察者显现的表面凹凸到复制层的表面中,所述表面凹凸通过具有产生放大、缩小、或变形效果的类透镜设计的结构形成;
c)将高折射率第一介电层施加到形成表面凹凸的复制层表面上;
d)将至少部分透明的间隔层以湿化学方式施加到所述第一介电层上;
e)将高折射率第二介电层施加到所述间隔层上,
其中,所述间隔层的折射率低于所述高折射率第一介电层和所述高折射率第二介电层,
其中,所述间隔层背向复制层的表面中形成进一步的表面凹凸,其中表面凹凸和进一步的表面凹凸至少部分相关联。
2.如权利要求1所述的方法,
其特征在于,
所述间隔层通过凹版印刷、幕涂、狭缝涂布、旋涂、或浸涂进行施加。
3.如权利要求1或2所述的方法,
其特征在于,
所述间隔层通过施加清漆产生,所述清漆是基于硝酸纤维素、环氧树脂、聚酯、松香、丙烯酸酯、醇酸、三聚氰胺、PVA、PVC、异氰酸酯或氨基甲酸酯体系的清漆。
4.如权利要求3所述的方法,
其特征在于,
清漆用于施加所述间隔层,所述清漆的粘度为5mPa·s-250mPa·s,并且/或者具有至少30质量%的极性指数大于3.0的溶剂。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述清漆的粘度为15mPa·s-200mPa·s。
6.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述清漆的粘度为20-170mPa·s。
7.如权利要求4-6中任一项所述的方法,其特征在于,所述清漆具有至少50质量%的极性指数大于3.0的溶剂。
8.如权利要求1或2所述的方法,
其特征在于,
以1μm-20μm的湿层厚度施加间隔层。
9.如权利要求1或2所述的方法,
其特征在于,
以2μm-10μm的湿层厚度施加间隔层。
10.如权利要求1或2所述的方法,
其特征在于,
在施加后对间隔层在40℃-200℃的温度下进行干燥。
11.如权利要求1或2所述的方法,
其特征在于,
在施加后对间隔层在40℃-150℃的温度下进行干燥。
12.如权利要求1或2所述的方法,
其特征在于,
第一和/或第二金属层通过真空涂覆或溅射Cr、Al、Cu、Ti、Ni、Ag或因科内尔铬镍铁合金产生,所述第一和/或第二金属层的层厚为2nm-20nm,或者
高折射率第一介电层和高折射率第二介电层通过真空涂覆或溅射TiO2、ZrO2或ZnS产生,所述介电层的层厚为10nm-200nm。
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