[发明专利]氧化石墨烯阻挡膜有效
申请号: | 201680006006.7 | 申请日: | 2016-01-14 |
公开(公告)号: | CN107530732B | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 郑世俊;片山浩之;谢尔盖·西玛沃瑞安 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | B05D3/06 | 分类号: | B05D3/06;C08J5/18;C08J7/048;C08J7/12;C09D129/04;C08L5/08;C08L3/00;C08L67/02;C08L29/04;C08L89/00 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 肖善强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化 石墨 阻挡 | ||
1.一种阻挡膜,其包含含有石墨烯、聚合物和交联基团的交联组合物;其中所述膜的可见光透射率为至少60%;其中所述聚合物是聚乙烯醇;并且其中所述交联基团是由烷基二醛形成的。
2.根据权利要求1所述的阻挡膜,其中所述阻挡膜是阻挡水分和气体通过的阻挡层。
3.根据权利要求1所述的阻挡膜,其中所述交联基团将石墨烯薄片连接至聚合物分子。
4.根据权利要求1所述的阻挡膜,其中所述交联基团是通过将所述石墨烯和所述聚合物暴露于紫外线辐射形成的。
5.根据权利要求1所述的阻挡膜,其中所述聚合物还包括生物聚合物。
6.根据权利要求1所述的阻挡膜,其中所述石墨烯包括还原的氧化石墨烯或氧化石墨烯。
7.根据权利要求1所述的阻挡膜,其厚度为5μm至20μm。
8.根据权利要求1所述的阻挡膜,其中所述聚合物与所述石墨烯的比率为100:1至10,000:1。
9.根据权利要求1所述的阻挡膜,其中基于所述石墨烯、所述聚合物和所述交联基团的总重量,所述交联基团为0.1重量%至25重量%。
10.一种阻气阻挡装置,其包括根据权利要求1所述的阻挡膜。
11.根据权利要求10所述的阻气阻挡装置,还包括基板,其中所述阻挡膜设置在所述基板上方。
12.根据权利要求10所述的阻气阻挡装置,还包括设置在所述阻挡膜上的保护涂层。
13.一种制造权利要求1的阻挡膜的方法,包括:
a.在水性混合物中混合所述聚合物、所述石墨烯和所述交联剂;
b.将所述混合物刮涂在基板上以产生厚度在5μm至30μm范围内的薄膜;
c.在20℃至120℃范围内的温度下将所述混合物干燥15分钟至72小时;以及
d.在40℃至200℃范围内的温度下将所得涂层退火10小时至72小时。
14.根据权利要求13所述的方法,其中所述水性混合物还包含足量的酸以进行水解缩合。
15.根据权利要求13所述的方法,还包括以0.001W/cm2至100W/cm2的表面强度用紫外线辐射照射所述阻挡膜15分钟至15小时。
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