[发明专利]基板处理装置、元件制造系统及元件制造方法

说明书

一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。

技术领域

本发明关于基板处理装置、元件制造系统及元件制造方法。

背景技术

以往，作为基板处理装置，已知有一种对片状媒体(基板)上的既定位置进行描绘的扫描式描绘装置(参照例如文献1)。扫描式描绘装置具备描绘台、激光光源、光调变器、以及扫描光学系。描绘台在载置有媒体的状态搬送于搬送方向(副扫描方向)。激光光源往光调变器照射激光。光调变器例如使用声光调变元件(AOM：Acousto Optic Modulator)，将从激光源照射的激光予以调变。光调变器，在被切换成ON后，通过绕射使激光偏向，将激光投射于媒体上。另一方面，光调变器，在被切换成OFF后，不使激光偏向而成为不将激光投射于媒体上的状态。扫描光学系，将从光调变器射出的激光从媒体上的扫描开始端至扫描结束端为止沿着既定扫描线扫描于扫描方向。接着，扫描式描绘装置，一边通过描绘台使媒体搬送于副扫描方向、一边以光调变器调变激光，通过使以扫描光学系调变后的激光的点光扫描于扫描方向，以对媒体进行描绘。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000－227661号公报

发明内容

发明解决的技术问题

此外，作为描绘对象的基板，会伴随元件大型化而变大。若基板变大，描绘于基板的图案亦变大。此处，专利文献1的扫描式描绘装置，由于系以一条扫描线进行描绘，因此在描绘于基板的图案变大的情形时，激光的点光所形成的扫描线变长。然而，专利文献1的扫描式描绘装置，由于扫描线长度有其极限，因此描绘于基板的图案的大小受到扫描线长度限制。

因此，可考量以多条扫描线(描绘线)将图案描绘于基板的所谓多光束型的描绘方式。此种多光束型描绘方式，将多条描绘线于扫描线的方向排列配置，通过将以各扫描线形成的各个图案在与基板的搬送方向正交的宽度方向相接合，而能对基板描绘较大图案。

即使多光束型描绘方式，由于亦一边将基板搬送于搬送方向、一边以多条描绘线将图案描绘于基板，因此从各描绘线的描绘开始位置描绘至描绘结束位置的图案，于基板的搬送速度产生速度不均等的情形时，描绘开始位置与描绘结束位置会在搬送方向以微米等级的差异位于不同位置。因此，可能产生在基板宽度方向相邻的图案彼此的相接合精度恶化的现象、亦即产生接合误差。

本发明的实施态样，有鉴于上述问题点，即使连结有多条描绘线的多光束型的描绘方式，亦可良好地减低在基板宽度方向相接合的图案彼此的接合误差。

解决问题采用的技术手段

依据本发明的第1实施态样，提供一种基板处理装置，具备：基板搬送装置，一边支承既定宽度的基板、一边将其以既定速度往与前述基板宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置，具有多个描绘模块，沿着将投射于前述基板的描绘光束于较前述基板的宽度窄的范围扫描于前述宽度方向而得到的描绘线将既定图案描绘于前述基板上，以通过前述多个描绘模块的各个而描绘于前述基板上的图案彼此在前述基板宽度方向相接合的方式，将彼此在前述宽度方向相邻的前述描绘线于前述搬送方向相隔既定间隔配置；倾斜调整机构，调整前述描绘线相对于前述基板宽度方向的倾斜；以及基板速度检测装置，检测出前述基板的搬送速度；根据以前述基板速度检测装置检测出的前述基板的搬送速度，通过前述倾斜调整机构调整前述描绘线的相对倾斜。