[发明专利]光源装置和投影仪有效
申请号: | 201680006708.5 | 申请日: | 2016-02-18 |
公开(公告)号: | CN107208856B | 公开(公告)日: | 2020-03-03 |
发明(设计)人: | 秋山光一;柏木章宏;高木千种 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03B21/14 | 分类号: | G03B21/14;F21Y115/10 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;邓毅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光源 装置 投影仪 | ||
1.一种光源装置,其用于投影仪,其特征在于,该光源装置具有:
发光元件;
偏振分离元件;
第1聚光光学系统,从所述发光元件射出的光中的第1成分被所述偏振分离元件反射而入射至该第1聚光光学系统;
第2聚光光学系统,从所述发光元件射出的光中的第2成分透过所述偏振分离元件而入射至该第2聚光光学系统;
光学元件,其入射透过所述第2聚光光学系统后的所述第2成分;以及
拾取光学系统,其入射经由所述光学元件后的所述第2成分,该拾取光学系统与所述第2聚光光学系统不同,
所述第2聚光光学系统和所述拾取光学系统中的至少一方包含由石英形成的第1透镜,
所述第2聚光光学系统和所述拾取光学系统具有的多个透镜中的至少一个透镜是圆锥常数为负的非球面,
所述偏振分离元件设置在所述发光元件与所述第2聚光光学系统之间的光路中。
2.根据权利要求1所述的光源装置,其中,
所述光学元件具有使所述第2成分反射的反射面,
所述反射面反射后的所述第2成分入射到所述拾取光学系统。
3.根据权利要求2所述的光源装置,其中,
所述光源装置还具有:
相位差元件,其设置在所述偏振分离元件与所述第2聚光光学系统之间的光路中,入射所述光中的经由所述偏振分离元件后的所述第2成分,
所述第2聚光光学系统兼作为所述拾取光学系统,
所述反射面反射后的所述第2成分透过所述拾取光学系统和所述相位差元件而入射到所述偏振分离元件。
4.根据权利要求3所述的光源装置,其中,
所述第1透镜在所述第2聚光光学系统中配置在最靠所述相位差元件侧,
所述第1透镜在所述相位差元件侧具有圆锥常数为负的非球面,在与所述相位差元件相反的一侧具有曲率半径为1000mm以上的曲面或平面。
5.根据权利要求1~3中的任意一项所述的光源装置,其中,
所述第2聚光光学系统还包含第2透镜,所述第2透镜在所述第2聚光光学系统中配置在最靠所述光学元件侧,
所述第2透镜由石英形成,
所述第2透镜的所述光学元件侧的透镜面是曲率半径为1000mm以上的曲面或平面。
6.根据权利要求3所述的光源装置,其中,
所述第2聚光光学系统还包含第3透镜,所述第3透镜在所述第2聚光光学系统中配置在最靠所述相位差元件侧,
所述第3透镜的光弹性常数小于所述第1透镜的光弹性常数。
7.根据权利要求6所述的光源装置,其中,
所述第3透镜在所述相位差元件侧具有圆锥常数为负的非球面。
8.一种光源装置,其特征在于,其具有:
发光元件;
偏振分离元件;
第1聚光光学系统,从所述发光元件射出的光中的第1成分被所述偏振分离元件反射而入射至该第1聚光光学系统;
第2聚光光学系统,从所述发光元件射出的光中的第2成分透过所述偏振分离元件而入射至该第2聚光光学系统;
光学元件,其入射透过所述第2聚光光学系统后的所述第2成分;以及
拾取光学系统,其入射经由所述光学元件后的所述第2成分,该拾取光学系统与所述第2聚光光学系统不同,
所述第2聚光光学系统和所述拾取光学系统具有的多个透镜中的至少一个透镜包含由石英形成的第1透镜,
所述第1透镜在所述第2聚光光学系统中配置在最靠所述光学元件侧,
所述偏振分离元件设置在所述发光元件与所述第2聚光光学系统之间的光路中。
9.根据权利要求6~8中的任意一项所述的光源装置,其中,
所述第2聚光光学系统还具有与所述第1透镜相邻的第4透镜,
所述第4透镜由石英形成。
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