[发明专利]透镜装置和图像投影装置有效
申请号: | 201680007052.9 | 申请日: | 2016-01-27 |
公开(公告)号: | CN107209344B | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 田中纯一 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B7/08 | 分类号: | G02B7/08;G02B13/16;G03B21/00;G03B21/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 宋岩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 装置 图像 投影 | ||
1.一种透镜装置,包括:
第一光学单元,被配置成通过在投影光学系统的光轴方向上移位来改变投影光学系统的像场弯曲量;
第二光学单元,包括被配置成在对焦期间移动的对焦调整单元和被配置成在变焦期间移动的变焦调整单元,所述第二光学单元被配置成通过在投影光学系统的光轴方向上移位来改变投影光学系统的投影倍率和对焦位置;
第一检测单元,用于检测第一光学单元的位置;
存储器,被配置成存储关于通过第一光学单元的移位的投影光学系统的投影倍率和对焦位置的改变的改变信息;和
控制单元,被配置成控制第二光学单元以使其移位,以在投影光学系统的像场弯曲量改变时基于由第一检测单元检测的第一光学单元的位置和存储在存储器中的改变信息来减小由于所述第一光学单元的移位而引起的所述投影光学系统的投影倍率和对焦位置的改变。
2.根据权利要求1所述的透镜装置,还包括用于检测所述第二光学单元的位置的第二检测单元,
其中所述控制单元控制所述第二光学单元以使其移位,以在投影光学系统的像场弯曲量改变时基于由第一检测单元检测的第一光学单元的位置、由第二检测单元检测的第二光学单元的位置以及存储在存储器中的改变信息来减小由于所述第一光学单元的移位而引起的所述投影光学系统的投影倍率和对焦位置的改变。
3.根据权利要求1所述的透镜装置,其中,所述投影光学系统的投影面能够通过所述第一光学单元的移位而从球形形状和平面形状中的一个改变为球形形状和平面形状中的另一个。
4.根据权利要求1所述的透镜装置,其中,防止所述第一光学单元和所述第二光学单元具有彼此重叠的光学部件。
5.根据权利要求4所述的透镜装置,
其中第一光学单元不为了对焦而移动,而在像场弯曲的调整期间移动。
6.根据权利要求1所述的透镜装置,其中,所述第一光学单元和所述第二光学单元包括彼此重叠的至少一个光学部件。
7.根据权利要求1所述的透镜装置,还包括用于在投影光学系统的光轴方向上移动所述第一光学单元的移动单元,所述移动单元能由用户操作。
8.根据权利要求1所述的透镜装置,还包括多个透镜,
其中所述第一光学单元包括所述多个透镜中位于最靠近放大共轭侧的透镜。
9.根据权利要求1所述的透镜装置,
其中所述存储器还存储所述第一光学单元的光轴与所述投影光学系统的光轴之间的位置关系,以及
其中所述控制单元基于所述位置关系来控制至少所述第一光学单元以在与所述光轴方向正交的方向上移位。
10.一种图像投影装置,包括:
图像显示元件;和
根据权利要求1至9中任一项所述的透镜装置。
11.一种可安装透镜装置的图像投影装置,所述透镜装置包括:
第一光学单元,被配置成通过在投影光学系统的光轴方向上移位来改变投影光学系统的像场弯曲量;
第二光学单元,包括被配置成在对焦期间移动的对焦调整单元和被配置成在变焦期间移动的变焦调整单元,所述第二光学单元被配置成通过在投影光学系统的光轴方向上移位来改变投影光学系统的投影倍率和对焦位置;以及
第一检测单元,被配置成检测第一光学单元的位置,
其中图像投影装置包括:
存储器,被配置成存储关于通过第一光学单元的移位的投影光学系统的投影倍率和对焦位置的改变的改变信息;和
控制单元,被配置成控制第二光学单元以使其移位,以在投影光学系统的像场弯曲量改变时基于由第一检测单元检测的第一光学单元的位置和存储在存储器中的改变信息来减小由于所述第一光学单元的移位而引起的所述投影光学系统的投影倍率和对焦位置的改变。
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