[发明专利]用于提高热输出的带有特别设计的真空腔在审
| 申请号： | 201680007066.0 | 申请日： | 2016-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN107406973A | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | S·克拉斯尼特泽;M·埃斯塞巴奇 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康表面解决方案股份公司;普费菲孔 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 郭帆扬,宣力伟 |
| 地址： | 瑞士普*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 提高 输出 带有 特别 设计 空腔 | ||
1.一种用于处理基底的真空腔，其至少包括如下元件：
-热输入元件，其用于将热量输入到所述真空腔的在其中能处理至少一种基底(10)的处理区域中，
-腔壁(20)，通过其能将所述热量从所述处理区域中输出，所述腔壁包括内部和外部的腔壁侧，以及
-遮蔽壁(30)，其如此布置在所述腔壁(20)与所述处理区域之间，即在所述处理区域方面，相对于所述内部的腔壁侧安置有背对的遮蔽壁侧，
其特征在于，相对于所述内部腔壁侧安置的所述遮蔽壁侧至少部分、优选地绝大部分设有第一层(31)，其具有ε≥0.65的辐射系数。
2.根据权利要求1的真空腔，其特征在于，所述内部的腔壁侧至少部分、优选地至少绝大部分设有第二层(21)，其具有ε≥0.65的辐射系数。
3.根据前述权利要求中任一项所述的真空腔，其特征在于，所述腔壁(20)包括集成的冷却系统(15)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的真空腔，其特征在于，所述第一层(31)的辐射系数大于等于0.80、优选地大于等于0.90。
5.根据前述权利要求中任一项所述的真空腔，其特征在于，所述第二层(21)的辐射系数大于等于0.80、优选地大于等于0.90。
6.根据前述权利要求中任一项所述的真空腔，其特征在于，所述第一层(31)和/或所述第二层(21)至少部分借助于PVD方法和/或PA-CVD-方法来分离。
7.根据前述权利要求中任一项所述的真空腔，其特征在于，所述第一层(31)和/或所述第二层(21)包括铝和/或钛。
8.根据前述权利要求中任一项所述的真空腔，其特征在于，所述第一层(31)和/或所述第二层(31)包括氮和/或氧。
9.根据权利要求7所述的真空腔，其特征在于，所述第一层(31)和/或所述第二层(21)包括氮化钛铝或氮化铝钛。
10.根据权利要求8或9所述的真空腔，其特征在于，所述第一层(31)和/或第二层(31)包括氧化铝。
11.带有根据前述权利要求中任一项所述的真空腔来作为涂层腔的涂层设备。
12.根据权利要求11所述的涂层设备，其特征在于，所述涂层腔构建成PVD涂层腔。
13.根据权利要求12所述的涂层设备，其特征在于，所述遮蔽壁(30)设置用于减少或避免在所述PVD涂层腔中执行PVD过程期间所述内部腔壁侧的涂层。
14.根据前述权利要求12至13中任一项所述的涂层设备，其特征在于，所述PVD涂层腔的盖面和底面被热隔离。
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