[发明专利]用于处理包括微生物结构层的表面和物品的方法

权利要求书

1.一种用于处理基底的表面的方法，所述方法包括：

a)使微生物在待处理的所述基底的所述表面上生长以形成微生物结构层，其中所述微生物选自真菌、细菌、藻类、地衣及其任何组合；和

b)涂覆所述微生物结构以在上面形成第一涂层，其中所述第一涂层具有不超过1μm的厚度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述微生物选自真菌或细菌，所述真菌或细菌包括具有在0.3μm与100μm之间的直径的菌丝。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述真菌或细菌选自选自霉菌、放线菌及其任何组合。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述真菌或细菌选自根霉菌属、毛霉菌属、链孢霉菌属、曲霉菌属、青霉菌属、链霉菌属、诺卡氏菌属、弗兰克氏菌属、游动放线菌属、高温单孢菌属及其任何组合。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述链霉菌属选自白色链霉菌、灰色链霉菌、委内瑞拉链霉菌、金黄色链霉菌及其任何组合。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的方法，其中通过选自气相沉积、自传播高温合成、热化学合成、热喷涂、电化学合成、溶胶-凝胶法、和原位成型中的一个或多个方法将所述第一涂层形成在所述微生物结构上。

7.根据权利要求1至5中的任一项所述的方法，其中所述第一涂层是有机涂层或无机涂层，并且形成围绕所述微生物结构的壳。

8.根据权利要求1至5中的任一项所述的方法，其中所述第一涂层是由选自氧化硅、氧化镁、氧化铝、氧化锌、氧化铁、氧化铜、氧化银、氧化钛及其任何组合的无机氧化物组成的涂层。

9.根据权利要求1至5中的任一项所述的方法，其中所述方法进一步包括：

c)在所述第一涂层上形成第二涂层。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述第二涂层是由疏水材料、疏油材料或两憎材料组成的涂层，并且所述第二涂层具有不超过70mJ/m2的表面能量。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述第二涂层选自有机氟涂层、有机硅涂层、氟硅涂层及其任何组合。

12.根据权利要求9所述的方法，其中所述微生物包括白色链霉菌，所述第一涂层包括二氧化硅，并且所述第二涂层包括氟化硅烷。

13.根据权利要求1至5中的任一项所述的方法，其中所述方法进一步包括在已形成所述第一涂层之后将所述微生物去激活或去除的步骤。

14.一种物品(10)，包括基底(100)、形成在所述基底(100)的表面(110)的至少一部分上的微生物结构层(120)和形成在所述微生物结构(120)上的第一涂层(130)，其中所述微生物结构包括源自真菌、藻类、地衣或其任何组合的结构；并且其中所述第一涂层具有不超过1μm的厚度。

15.根据权利要求14所述的物品(10)，其中所述物品(10)通过使用根据权利要求1至13中的任一项的用于处理基底(100)的表面(110)的至少一部分的方法制成。