[发明专利]用于尤其在光学系统中操纵元件位置的装置

权利要求书

1.一种用于在光学系统中在至少一个自由度中操纵元件的位置的装置，具有：

·针对位置操纵的每个自由度具有至少一个执行器(22、52、72、102a、102b、122a、122b、142a、142b、162a、162b)以将可调节的力施加在元件(21、51、71、101、121、141、161)上；

·针对位置操纵的每个自由度具有至少一个位置传感器(23、53、73、103、163a、163b)以分别产生表征元件位置的传感器信号；并且

·具有至少一个位置调节器(27、57、77、107)，所述位置调节器在位置调节回路中根据至少一个传感器信号调节由至少一个用于定位元件的执行器施加在元件上的力；

·其中，至少一个执行器和至少一个位置传感器安装在共同的模块框架(24、54、74、104、124、144、164)上；并且

·其中，所述模块框架这样机械式地连接在参考框架(25、55、75、105、125、145)上，使得对于所述连接的共振频率(ω_MR)满足条件0.5·ω_B≤ω_MR≤2ω_B，其中，ω_B表示位置调节回路的带宽。

2.按权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置针对位置操纵的每个自由度具有正好一个执行器(22、52、72)。

3.按权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置针对位置操纵的每个自由度具有至少两个执行器(122a、122b、142a、142b)，其中，由所述执行器施加在元件(121、141)上的力能够彼此独立地调节。

4.按权利要求3所述的装置，其特征在于，所述装置具有：

·针对位置操纵的每个自由度的至少两个执行器(122a、122b、142a、142b)；以及

·至少一个位置调节器(127、147)，所述位置调节器在位置调节回路中根据至少一个传感器信号彼此独立地调节由执行器(122a、122b、142a、142b)施加的力，其中，执行器中的至少一个在元件上施加力；

·其中，所述执行器中的至少一个(122b)这样配置有带反作用质量(m_D)的另一元件(121x)，使得伴随通过相关执行器施加在待定位元件上的力的反作用力作用在所述反作用质量上。

5.按权利要求4所述的装置，其特征在于，伴随由执行器(122a、122b、142a、142b)中的至少一个施加在待定位元件或者模块框架上的力的反作用力能够通过至少两个执行器中的另一执行器补偿。

6.按权利要求4或5所述的装置，其特征在于，所述至少两个执行器(122a、122b、142a、142b)和位置传感器(123、143)安装在共同的模块框架(124、144)上。

7.按权利要求6所述的装置，其特征在于，至少一个反作用质量(m_D)机械式地连接在所述模块框架(124、144)上。

8.按权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还具有加速度预控制装置(58、78、128、148)，所述加速度预控制装置基于参考框架(55、75、125、145)的加速度修改施加在待定位元件(51、71、121、141)上的力。

9.按权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置具有用于测量参考框架(55、75、125、145)的加速度的加速度传感器(59、79、129、149)。

10.按权利要求9所述的装置，其特征在于，所述加速度传感器(59、79、129、149)安装在模块框架(54、74、124、144)上。

11.按权利要求9所述的装置，其特征在于，所述加速度传感器安装在参考框架(55、75、125、145)上。