[发明专利]发热体及其制造方法

权利要求书

1.一种发热体，其特征在于，该发热体包含：

具有金属钽相的第1层、以及

覆盖上述第1层的周围且具有碳化钽相的第2层，

上述第1层与上述第2层的界面部的硅浓度高于该界面部以外的部分的硅浓度。

2.如权利要求1所述的发热体，其特征在于，上述第2层的内周部的硅浓度高于该内周部以外的部分的硅浓度。

3.如权利要求1或2所述的发热体，其特征在于，上述第1层的截面积相对于上述发热体的截面积之比率为0.07以上0.64以下。

4.一种发热体的制造方法，其特征在于，该方法包括：

设置工序，将以钽为主成分的基材设置于真空腔室内；以及

加热工序，将含硅烃气体导入至上述真空腔室内，对设置于上述真空腔室内的上述基材进行加热，将硅原子从上述基材的外表面导入至上述基材的内部。

5.如权利要求4所述的发热体的制造方法，其特征在于，

上述基材为线状或带状，

在上述加热工序中，对设置于上述真空腔室内的上述基材进行通电加热。

6.如权利要求4或5所述的发热体的制造方法，其特征在于，在上述加热工序中，将上述基材在1600℃以上且小于2400℃的温度进行加热。