[发明专利]包含含有异氰酸酯衍生的烯键式不饱和单体的低聚物的无氟纤维处理组合物以及处理方法

权利要求书

1.一种无氟处理组合物，包含：

衍生自反应混合物的一种或多种化合物，所述反应混合物包含：

(i)包含2至20个重复单元的至少一种异氰酸酯反应性低聚物；

(ii)至少一种多异氰酸酯；

(iii)任选地至少一种另外的异氰酸酯反应性化合物；以及

(iv)任选地至少一种异氰酸酯封闭剂；

其中所述异氰酸酯反应性低聚物含有能够与异氰酸酯反应的官能团并且通过包含至少一种硫醇和至少一种(甲基)丙烯酸酯单体的反应混合物的自由基引发反应制备，其中所述至少一种(甲基)丙烯酸酯单体包含至少一个异氰酸酯衍生的基团和至少一个具有至少16个碳原子的烃基团，并且所述异氰酸酯衍生的基团为氨基甲酸酯基团或脲基团。

2.根据权利要求1所述的无氟组合物，其中基于单体的总重量计，所述异氰酸酯反应性低聚物由至少70重量％的具有异氰酸酯衍生的基团和具有至少16个碳原子的烃基团的(甲基)丙烯酸酯单体制备。

3.根据权利要求1所述的无氟组合物，其中所述硫醇是非官能化的或用至少一个异氰酸酯反应性基团官能化的。

4.根据权利要求3所述的无氟组合物，其中所述硫醇用至少一个醇或胺基团官能化。

5.根据权利要求1所述的无氟组合物，其中所述异氰酸酯反应性低聚物包含封闭的异氰酸酯基团。

6.根据权利要求1所述的无氟组合物，其中包含至少一个异氰酸酯衍生的基团和至少一个具有至少16个碳原子的烃基团的所述(甲基)丙烯酸酯具有以下式中的至少一个：

其中：

R¹、R³和R⁵独立地为具有至少16个碳原子的烃基团；

R²、R⁴和R⁶独立地为H或CH₃；

L¹、L²和L³独立地为具有2至10个碳原子的支链或直链亚烷基基团、亚芳基基团、或它们的组合；

X¹和X²独立地为O、S、-NH或-N(R¹⁰)，其中R¹⁰为具有1至20个碳原子的烃基团；并且

Q是二价异氰酸酯残基。

7.根据权利要求1所述的无氟组合物，其中所述低聚物包括以下式中的至少一个：

其中：

Y¹、Y²和Y³独立地为H或引发剂残基；

R¹、R³和R⁵独立地为具有至少16个碳原子的烃基团；

R²、R⁴和R⁶独立地为H或CH₃；

L¹、L²和L³独立地为具有2至10个碳原子的支链或直链亚烷基基团、亚芳基基团、或它们的组合；

X¹和X²独立地为O、S、-NH或-N(R¹⁰)，其中R¹⁰为具有1至20个碳原子的烃基团；

Q是二价异氰酸酯残基；

每个m独立地为2至20的整数；

R⁷、R⁸和R⁹独立地为具有1至10个碳原子的二价或三价连接基团；

T¹、T²和T³独立地为–OH、–NH₂或–NH(R¹¹)，其中R¹¹为H、具有1至10个碳原子的烃基团；

每个p独立地为1或2；并且

S为硫。