[发明专利]聚合物网络

权利要求书

1.一种可光聚合或可光交联的反应性液晶基元，用于形成空穴传输或发光聚合物网络，所述液晶基元具有结构(III)：

(B₁-S₁-A₁)_n-M-(A₂-S₂-B₂)_m(III)

其中：

M是发色团的芳族或杂环的部分；

A₁和A₂是在咔唑环的3位中被取代的咔唑基团，并且可以是相同的或不同的；

S₁和S₂是间隔基，并且可以是相同的或不同的；

B₁和B₂是可聚合的基团，并且可以是相同的或不同的；且

m和n独立地是从1至10的整数。

2.如权利要求1所述的可光聚合或可光交联的反应性液晶基元，其中可聚合的基团B₁和B₂经由所述间隔基基团被附接至所述咔唑基团的氮原子。

3.如权利要求1或2所述的可光聚合或可光交联的反应性液晶基元，其中B₁和B₂是可光聚合或可光交联的基团。

4.如权利要求1、2或3所述的可光聚合或可光交联的反应性液晶基元，其中M是具有足够的长度以提供基于高的长宽比的液晶性的芳族或杂环的部分。

5.如权利要求4所述的可光聚合或可光交联的反应性液晶基元，其中M是包含至少四个芳环、稠合芳环或杂环的发色团的芳族或杂环的部分。

6.如权利要求1至5中任一项所述的可光聚合或可光交联的反应性液晶基元，其中m和n独立地具有从1至3的值。

7.一种用于形成发光或电荷传输聚合物网络的材料，所述材料包含如权利要求1至6中任一项所述的可光聚合或可光交联的反应性液晶基元。

8.如权利要求7所述的材料，所述材料包含至少一种另外的可光聚合或可光交联的反应性液晶基元。

9.如权利要求8所述的材料，其中所述至少一种另外的可光聚合或可光交联的反应性液晶基元具有式(I)：

B-S-A-S-B(I)

其中：

A是发色团；

S是间隔基；且

B是对光聚合或光交联敏感的端基。

10.一种电荷传输或发光聚合物网络，其是通过权利要求7、8或9所述的材料的聚合或交联获得的。

11.如权利要求10所述的电荷传输或发光聚合物网络，具有高于4000的分子量。

12.一种用于制备权利要求10或权利要求11所述的聚合物网络的工艺，所述工艺包括使包含至少一种反应性液晶基元的所述材料经由所述至少一种液晶基元的可光聚合或可光交联的端基的光聚合或光交联而聚合或交联。

13.如权利要求12所述的用于形成电荷传输或发光聚合物网络的工艺，包括使包含至少一种具有式(III)的反应性液晶基元的组合物光聚合或光交联：

(B₁-S₁-A₁)_n-M-(A₂-S₂-B₂)_m(III)

其中

M是发色团的芳族或杂环的部分；

A₁和A₂是在咔唑环的3位中被取代的咔唑基团，并且可以是相同的或不同的；

S₁和S₂是间隔基，并且可以是相同的或不同的；

B₁和B₂是可聚合的基团，并且可以是相同的或不同的；且

m和n独立地是从1至10的整数，

其中所述工艺提供空穴传输或发光聚合物网络。

14.如权利要求13所述的工艺，其中所述工艺包括由所述至少一种反应性液晶基元和至少一种另外的可光聚合或可光交联的液晶基元制备聚合物网络。