[发明专利]蒸镀单元、蒸镀装置及蒸镀方法

权利要求书

1.一种蒸镀单元，使规定图案的蒸镀膜成膜于被成膜基板上，其特征在于，包含：

蒸镀源；

配置于所述蒸镀源与所述被成膜基板之间的蒸镀掩模；以及

配置于所述蒸镀源与所述蒸镀掩模之间的限制板单元；

所述限制板单元具有在从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时彼此隔开地设置的多片第一限制板；

所述蒸镀源具有：多个第一开口部，其在从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时分别设置于所述第一限制板间的间隙，用于射出蒸镀颗粒；以及至少一个第二开口部，其设置在与所述间隙不相对的位置，用于泄压。

2.如权利要求1所述的蒸镀单元，其特征在于，所述第二开口部与所述第一限制板相对设置。

3.如权利要求2所述的蒸镀单元，其特征在于，所述第二开口部在从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，设置于所述第一限制板间的彼此相邻的间隙之间的中央部分。

4.如权利要求2或3所述的蒸镀单元，其特征在于，所述限制板单元具有多片第二限制板，所述多片第二限制板在所述蒸镀源与所述第一限制板之间，与所述第一限制板相对且在所述第一限制板的排列方向彼此隔开地设置；

所述第二限制板，针对于每一片所述第一限制板设置至少二片，在从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，与同一第一限制板相对的第二限制板夹着与该第一限制板相对的第二开口部设置。

5.如权利要求2至4中任一项所述的蒸镀单元，其特征在于，所述限制板单元具有多片第三限制板，所述多片第三限制板在所述第一限制板与所述蒸镀掩模之间，与所述第一限制板相对且在所述第一限制板的排列方向彼此隔开地设置；

所述第三限制板，针对于每一片所述第一限制板设置至少一片。

6.如权利要求5所述的蒸镀单元，其特征在于，所述第三限制板在从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，设置于所述第一限制板间的彼此相邻的间隙之间的中央部分。

7.如权利要求1至6中任一项所述的蒸镀单元，其特征在于，所述第二开口部的开口径比所述第一开口部的开口径小。

8.如权利要求7所述的蒸镀单元，其特征在于，所述第二开口部中通过其开口中心的剖面的开口径是100μm以上。

9.如权利要求1至8中任一项所述的蒸镀单元，其特征在于，所述限制板单元及所述第二开口部，以从所述第二开口部射出的蒸镀颗粒被所述限制板单元遮挡而不会到达所述蒸镀掩模的方式设计。

10.一种蒸镀装置，其特征在于，具备：

权利要求1至9中任一项所述的蒸镀单元；以及

移动装置，其在使所述蒸镀单元中的蒸镀掩模与被成膜基板相对配置的状态下，使所述蒸镀单元及所述被成膜基板中的至少一方，以从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时与所述第一限制板的排列方向垂直的方向成为扫描方向的方式相对移动；

所述蒸镀掩模在所述扫描方向的宽度比所述被成膜基板在所述扫描方向的宽度小；

一边沿着所述扫描方向扫描一边使从所述第一开口部射出的蒸镀颗粒通过所述限制板单元及所述蒸镀掩模蒸镀至所述被成膜基板。

11.一种蒸镀方法，使用权利要求10所述的蒸镀装置使规定图案的蒸镀膜成膜于被成膜基板上，其特征在于，包含：

配置工序，使所述蒸镀单元中的蒸镀掩模与被成膜基板隔开一定距离地相对配置；以及

覆盖工序，一边使所述蒸镀单元及所述被成膜基板中的至少一方在从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时与所述第一限制板的排列方向垂直的方向相对移动，一边使从所述第一开口部射出的蒸镀颗粒通过所述限制板单元及所述蒸镀掩模覆盖至所述被成膜基板；

在所述覆盖工序中，一边通过所述第二开口部使所述蒸镀源内的压力释放，一边从所述第一开口部朝向所述被成膜基板射出蒸镀颗粒。