[发明专利]化妆料

权利要求书

1.一种化妆料，其含有合成滑石，其中，

该合成滑石为具有用2片四面体片材夹住八面体片材而形成的基本结构的薄片状粒子，所述薄片状粒子包含以下述通式(1)表示的2:1型层状硅酸盐的结晶，

该薄片状粒子的体积平均粒径为0.5～100μm，在使用了Cu的Kα射线的不定向粉末X射线衍射测定(XRD)中，存在于2θ＝9.4°±1°的峰的半值半宽度为0.3°以下，且在用厚劳省发布的“基安化发0828001号”中记载的X射线衍射法进行测定时，Mg₃Si₂O₅(OH)₄的量在检测限即0.1质量％以下，

Mg_xSi_yO₁₀(OH)₂···(1)

式中，x及y是满足0.50≤x/y≤1.20及6.5≤x+y≤7.5的条件的值。

2.如权利要求1所述的化妆料，其中，

所述薄片状粒子的粒度分布的变异系数为30％以下。

3.如权利要求1或2所述的化妆料，其中，

所述薄片状粒子的BET比表面积为2～25m²/g。

4.如权利要求1或2所述的化妆料，其中，

在所述薄片状粒子使用了Cu的Kα射线的不定向粉末X射线衍射测定(XRD)中，存在于2θ＝9.4°±1°的峰的强度为存在于2θ＝60.5°±1°的峰的强度的2倍以上。

5.如权利要求1或2所述的化妆料，其中，

所述薄片状粒子的晶体(a，b)面的平均短径与平均长径之比(平均短径/平均长径)为0.3～0.8，晶体c轴方向的平均厚度为0.01～1μm，平均长宽比(平均长径/平均厚度)为10～500。

6.如权利要求1或2所述的化妆料，其中，

所述薄片状粒子的平均摩擦系数(MIU)为0.40以下，平均摩擦系数的变动幅度(MMD)为0.0035以下。

7.如权利要求1或2所述的化妆料，其中，

所述薄片状粒子为通过水热合成得到的未粉碎的物质。

8.如权利要求1或2所述的化妆料，其中，

所述薄片状粒子是通过包括下述工序的制造方法而得到物质，

所述工序为：

准备含有粉末状氢氧化镁及粉末状二氧化硅的原料；及

将该原料在100～5,000bar的加压下加热至500～800℃而进行水热合成。

9.如权利要求1或2所述的化妆料，其中，

化妆料为粉末化妆料。

10.如权利要求1或2所述的化妆料，其中，

化妆料为液状或乳霜状的化妆料。

11.如权利要求1或2所述的化妆料，其中，

化妆料为乳液状的化妆料。