[发明专利]包括热成像阶段的通过等离子体处理容器的方法

权利要求书

1.一种用于通过等离子体处理容器(2)以在容器(2)的内表面上沉积阻挡层的方法，所述方法包括以下操作：

-将容器(2)引入微波可穿透的壳体(5)中；

-在容器(2)内产生预定值的内负压；

-在壳体(5)内产生预定值的外负压；

-按照预定流量注入前驱气体到容器(2)中；

-使壳体(5)承受在微波范围内的预定功率和预定频率的电磁波，以在前驱气体中激发等离子体；

-在预定的处理持续时间期间保持内负压、外负压、前驱气体的注入和电磁波以维持等离子体；

-熄灭等离子体；

其特征在于，所述方法还包括以下操作：

-在等离子体熄灭后成像容器(2)的热图像(27)；

-比较容器的热图像(27)与储存的参照热图像(28)；

-如果容器(2)的热图像(27)不同于参照热图像(28)，则改变以下参数中的至少一项：内负压、外负压、前驱气体的流量、微波频率、微波功率、处理持续时间。

2.如权利要求1所述的方法，其中，通过主真空泵(8)建立内负压，改变内负压在于改变主真空泵(8)的流量。

3.如权利要求1所述的方法，其中，发生器(15)是磁控管，壳体(5)容置在带有用导电材料制成的活动板(21、22)的腔体(4)中，活动板的位置属于如果容器(2)的热图像(27)不同于参照热图像(28)可改变的参数。

4.如权利要求1所述的方法，其中，通过次真空泵(10)建立外负压，改变外负压在于改变次真空泵(10)的流量。

5.如权利要求1所述的方法，其中，通过注射器(12)将前驱气体注入到容器(2)中，改变前驱气体的流量在于调节注射器(12)的开口度。

6.如权利要求1所述的方法，其中，通过图像关联进行所述比较。

7.如权利要求6所述的方法，其中，通过局部图像关联进行所述比较。

8.一种用于通过等离子体处理容器(2)以在容器(2)的内表面上沉积阻挡层的设备，所述设备包括：

-能够接纳待处理的容器(2)的微波可穿透的壳体(5)；

-能够在容器(2)内产生预定值的内负压的第一真空回路；

-能够在壳体(5)内产生预定值的外负压的次真空回路；

-按照预定流量注入前驱气体到容器(2)中的注射装置(11)；

-在微波范围内的预定频率和预定功率的电磁波的发生器(15)，发生器能够在前驱气体中激发等离子体；

其特征在于，所述设备还包括：

-能够成像处理后的容器的热图像(27)的热感摄像机(20)；

-编程控制单元(25)，用于：

熄灭等离子体，然后进行热图像成像；

比较容器的热图像(27)与储存的参照热图像(28)；

如果容器(2)的热图像(27)不同于参照热图像(28)，则改变下列参数中的至少一项：内负压、外负压、前驱气体的流量、微波频率、微波功率、处理持续时间。