[发明专利]水中微粒的去除装置和超纯水制造/供给系统在审
| 申请号： | 201680011629.3 | 申请日： | 2016-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN107250052A | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 川胜孝博;饭野秀章;福井长雄;金田真幸;佐藤大辅 | 申请（专利权）人： | 栗田工业株式会社;旭化成株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/44 | 分类号： | C02F1/44;B01D61/14;B01D61/58;B01D71/72;B01J41/04;B01J47/12;C08J5/22;C08J9/36 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人： | 李英艳,张永康 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 水中 微粒 去除 装置 超纯水 制造 供给 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种水中微粒的去除装置，其是通过超纯水制造工艺去除水中的微粒的装置，其特征在于，
具有膜过滤机构，该膜过滤机构具有含有弱阳离子性官能基的精密过滤膜或超过滤膜。
2.如权利要求1所述的水中微粒的去除装置，其中，
所述具有弱阳离子性官能基的精密过滤膜或超过滤膜是在聚酮膜中导入有弱阳离子性官能基的膜。
3.如权利要求1或2所述的水中微粒的去除装置，其中，
所述弱阳离子性官能基是叔氨基。
4.一种水中微粒的去除装置，其特征在于，
在所述具有含有弱阳离子性官能基的精密过滤膜或超过滤膜的膜过滤机构的前段或后段，具有膜过滤机构，该膜过滤机构具有不含有离子交换基的精密过滤膜或超过滤膜。
5.一种水中微粒的去除装置，其特征在于，
所述微粒是粒径10nm以下的微粒。
6.如权利要求1至5中任一项所述的水中微粒的去除装置，其中，
其设置于从一次纯水来制造超纯水的超纯水制造装置的子系统、从子系统将超纯水供应至使用点的供水路径、或使用点。
7.一种超纯水制造/供给系统，其是具有包括从一次纯水来制造超纯水的子系统的超纯水制造装置和将来自该子系统的超纯水供应至使用点的供水路径的超纯水制造/供给系统，其特征在于，
在所述子系统或供水路径中设置有权利要求1至6中任一项所述的水中微粒的去除装置。
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