[发明专利]口腔治疗系统

权利要求书

1.一种口腔治疗系统，所述系统包括：

吹嘴，其包括壁和从所述壁延伸的咬合平台，两者共同界定用于接纳使用者的牙齿的第一沟槽；

电磁辐射源，其联接到所述吹嘴且被配置成将电磁辐射发射到定位于所述第一沟槽中的所述使用者的牙齿的表面上；以及

在所述壁或所述咬合平台的至少一者中的一个或多个孔口，所述一个或多个孔口被配置成将口腔治疗材料分配到所述第一沟槽以与定位于所述第一沟槽中的所述使用者的牙齿的表面接触。

2.根据权利要求1所述的口腔治疗系统，其还包括所述口腔治疗材料的贮存器，所述一个或多个孔口流体联接到所述贮存器。

3.根据权利要求2所述的口腔治疗系统，其还包括联接到所述吹嘴的壳体，所述壳体沿着第一方向从所述吹嘴的所述壁延伸，并且所述咬合平台沿着与所述第一方向相反的第二方向从所述吹嘴的所述壁延伸。

4.根据权利要求3所述的口腔治疗系统，其中所述贮存器位于所述壳体内。

5.根据权利要求3至4中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括位于所述壳体内的电源，所述电磁辐射源可操作地联接到所述电源。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括入口端口，所述入口端口与所述一个或多个孔口流体连通并且被配置成可拆卸地联接到所述贮存器的出口。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述贮存器容纳不超过单个剂量的所述口腔治疗材料。

8.根据权利要求2至6中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括可操作地联接到所述贮存器的处理器和可操作地联接到所述处理器的致动器，所述处理器被配置成响应于所述致动器的致动从所述贮存器将所述口腔治疗材料分配到所述第一沟槽中。

9.根据权利要求8所述的口腔治疗系统，其中所述贮存器容纳多个剂量的所述口腔治疗材料，并且其中所述处理器被配置成响应于所述致动器的单次致动而分配单个剂量的所述口腔治疗材料。

10.根据权利要求8至9中任一项所述的口腔治疗系统，其中响应于所述致动器的致动，所述处理器被配置成分配单个剂量的所述口腔治疗材料并且传输电力给所述电磁辐射源，使得所述电磁辐射源发射电磁辐射持续一段预定时间。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的口腔治疗系统，其还包括：多个孔口，所述多个孔口以间隔开的方式沿着所述壁或所述咬合平台中的至少一者布置。

12.根据权利要求11所述的口腔治疗系统，其还包括流体联接到所述多个孔口中的每一个的分配歧管。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述电磁辐射源包括第一柔性电路，所述第一柔性电路包括位于其上的多个第一照明元件，其中所述第一柔性电路联接到所述吹嘴的所述壁。

14.根据权利要求13所述的口腔治疗系统，其中所述第一柔性电路为印刷发光二极管电路。

15.根据权利要求13至14中任一项所述的口腔治疗系统，其中所述第一柔性电路设置在形成于所述壁的内表面中的凹部内。