[发明专利]用于使基底表面经受连续表面反应的装置

权利要求书

1.一种用于使基底(1)的表面经受至少第一前驱体和第二前驱体的连续表面反应的装置，所述装置还包括气体歧管(2)，所述气体岐管包括用于将前驱体供应至所述基底(1)的表面的至少一个前驱体供给通道(4)和用于从所述基底(1)的表面排出前驱体的至少一个排出通道(5)，所述气体岐管(2)的一部分形成固定部分(2a)；

用于保持所述基底(1)的基底保持件(6)，所述基底保持件(6)能够沿竖直方向移动，用以在工艺位置与装载位置之间移动所述基底(1)；其特征在于，所述装置还包括：

在所述气体歧管(2)的所述固定部分(2a)与所述基底保持件(6)之间的至少一个可移除部分，

所述气体歧管(2)还包括气体分配器(8)，所述气体分配器包括用于将前驱体从所述前驱体供给通道(4)供应至所述基底(1)的表面的供应通路(4a)和用于将前驱体从所述基底(1)的表面排出到排出喷嘴的排出通路(5a)，所述气体分配器(8)被布置为可移除部分。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括用于限定所述基底(1)上的涂覆区域的掩模(7)，所述掩模(7)形成所述可移除部分的至少一部分。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气体分配器(8)包括至少第一气体分配器(8a)和第二气体分配器(8b)，所述第一气体分配器和所述第二气体分配器彼此连接，并且形成用于将前驱体从所述前驱体供给通道(4)供应至所述基底(1)的表面的供应通路(4a)和用于将前驱体从所述基底(1)的表面排出到所述排出喷嘴的排出通路(5a)。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述第二气体分配器(8b)被布置为可移除部分。

5.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述第一气体分配器(8a)和所述第二气体分配器(8b)均被布置为可移除部分。

6.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述基底保持件(6)被布置成沿竖直方向移动所述掩模(7)。

7.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述装置还包括用于沿竖直方向移动所述至少一个单独的可移除部分的第一升降机(21)。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述第一升降机(21)被布置成移动所述掩模(7)。

9.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述装置还包括用于沿竖直方向移动所述气体分配器(8)的第二升降机(22)。

10.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述装置还包括用于沿竖直方向移动至少所述第二气体分配器(8b)的第二升降机(22)。

11.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述固定部分(2a)包括固定盖板、至少一个前驱体供给通道(4)和所述至少一个排出通道(5)。