[发明专利]卷取式成膜装置、蒸发源单元和卷取式成膜方法有效
申请号: | 201680012735.3 | 申请日: | 2016-06-06 |
公开(公告)号: | CN107406969B | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 广野贵启 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 | 代理人: | 韩登营;蒋国伟 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 卷取 式成膜 装置 蒸发 单元 方法 | ||
1.一种卷取式成膜装置,其特征在于,
具有退绕辊、卷取辊、冷却辊、蒸发源阵列、气体供给部和控制器,其中,
所述退绕辊用于退绕薄膜;
所述卷取辊用于卷取从所述退绕辊退绕出的所述薄膜;
所述冷却辊在所述薄膜的输送方向上被配置在所述退绕辊与所述卷取辊之间,用于对所述薄膜进行冷却;
所述蒸发源阵列具有多个第1蒸发源和多个第2蒸发源,其中,所述多个第1蒸发源在与所述冷却辊的轴向平行的第1线路上隔开规定的间隔而配置,生成作为蒸发材料的金属材料的蒸气流,所述多个第2蒸发源被设定在比所述第1线路更靠所述薄膜的输送方向的下游侧的位置,在与所述第1线路平行的第2线路上,与所述多个第1蒸发源错开半个间距且隔开所述规定的间隔而配置,生成所述金属材料的蒸气流;
所述气体供给部具有多个第1喷嘴部、多个第2喷嘴部和多个流量控制阀,且被配置在所述蒸发源阵列与所述冷却辊之间,其中,所述多个第1喷嘴部具有与所述多个第1蒸发源对应的数量,向来自所述多个第1蒸发源的蒸气流喷出与所述金属材料发生反应的反应性气体,所述多个第2喷嘴部具有与所述多个第2蒸发源对应的数量,向来自所述多个第2蒸发源的蒸气流喷出所述反应性气体,所述多个流量控制阀与所述多个第1喷嘴部和所述多个第2喷嘴部的各个喷嘴部对应地设置;和
所述控制器单独地控制所述多个流量控制阀。
2.根据权利要求1所述的卷取式成膜装置,其特征在于,
所述控制器单独地控制所述多个流量控制阀,使从所述多个第1蒸发源和所述多个第2蒸发源的各个蒸发源生成的蒸气流与所述反应性气体的反应程度均等。
3.根据权利要求1或2所述的卷取式成膜装置,其特征在于,
所述多个第1喷嘴部和所述多个第2喷嘴部被设定在比所述第1线路更靠所述薄膜的输送方向的上游侧的位置,被交替配置在与所述第1线路平行的第3线路上。
4.根据权利要求3所述的卷取式成膜装置,其特征在于,
所述多个第2喷嘴部被构成为:使其喷出比从所述多个第1喷嘴部喷出的所述反应性气体的量多的所述反应性气体。
5.根据根据权利要求4所述的卷取式成膜装置,其特征在于,
所述多个第2喷嘴部具有与所述多个第1喷嘴部喷出的所述反应性气体的喷出量不同的喷嘴结构。
6.根据权利要求1或2所述的卷取式成膜装置,其特征在于,
所述多个第1喷嘴部被配置在第3线路上,其中所述第3线路被设定于比所述第1线路更靠所述薄膜的输送方向上的上游侧的位置,且与所述第1线路平行,
所述多个第2喷嘴部被配置在第4线路上,其中所述第4线路被设定在比所述第2线路更靠所述薄膜的输送方向的下游侧的位置,且与所述第2线路平行。
7.根据权利要求1或2所述的卷取式成膜装置,其特征在于,
所述多个第1喷嘴部被配置在与所述第2线路平行的第3线路上,且被分别配置在从所述冷却辊来观察时不与所述多个第2蒸发源相向的位置,其中所述第3线路被设定在所述第2线路与所述冷却辊之间,
所述多个第2喷嘴部被配置在与所述第1线路平行的第4线路上,且被分别配置在从所述冷却辊来观察时不与所述多个第1蒸发源相向的位置,其中所述第4线路被设定在所述第1线路与所述冷却辊之间。
8.根据权利要求6所述的卷取式成膜装置,其特征在于,
所述多个第1喷嘴部被构成为:使其喷出与从所述多个第2喷嘴部喷出的所述反应性气体的量相等的量的所述反应性气体。
9.根据权利要求4或8所述的卷取式成膜装置,其特征在于,
所述蒸发源阵列中的位于所述冷却辊的轴向上的两端的蒸发源是第2蒸发源,
所述多个第2喷嘴部中的位于所述冷却辊的轴向上的两端的喷嘴部被构成为:使其喷出比从其以外的所述多个第2喷嘴部喷出的所述反应性气体的量多的所述反应性气体。
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