[发明专利]光学滤波器和摄像装置有效

专利信息
申请号: 201680012742.3 申请日: 2016-12-01
公开(公告)号: CN107430225B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 盐野和彦;松浦启吾;保高弘树 申请(专利权)人: AGC株式会社
主分类号: G02B5/22 分类号: G02B5/22;B32B7/023;B32B27/20;G02B5/26;G02B5/28
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 苗堃;金世煜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 滤波器 摄像 装置
【权利要求书】:

1.一种光学滤波器,具有吸收层和反射层且满足下述(i-1)、(i-2)和(i-3)的要件,

(i-1)在入射角0°的光谱透射率曲线中,波长430~620nm的光的平均透射率为65%以上且在波长600~700nm具有显示透射率50%的波长,

(i-2)在波长615~725nm,将入射角0°和入射角30°的光谱透射率曲线中的透射率的差分的绝对值平均而得到的值为8%/nm以下,

(i-3)在入射角60°的光谱透射率曲线中,波长730~1000nm的光的最大透射率为15%以下。

2.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,对于所述反射层的波长730~900nm的光的最小反射率,入射角为60°时比入射角为0°时小3%以上。

3.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其中,所述吸收层的入射角0°的光谱透射率曲线满足下述(iv-1)~(iv-3),

(iv-1)波长700nm的光的透射率为5%以下,

(iv-2)对波长780~860nm的光的最小透射率为50%以下,

(iv-3)波长430~460nm的光的平均透射率为60%以上。

4.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其中,所述吸收层包含色素(D1),该色素(D1)在溶解于二氯甲烷而测定的光吸收光谱中满足下述(ii-1)和(ii-2),

(ii-1)在波长760~875nm具有至少一个极大吸收波长,

(ii-2)将波长760~875nm的最大吸收波长的透射率设为10%时,在波长650~800nm具有显示透射率80%的波长。

5.根据权利要求4所述的光学滤波器,其中,所述色素(D1)包含选自花青系化合物、克酮酸系化合物、酞菁系化合物、方酸系化合物和二酮基吡咯并吡咯系化合物中的至少1种。

6.根据权利要求4所述的光学滤波器,其中,所述色素(D1)包含下述式(D1-1)所示的花青系化合物,

其中,式(D1-1)中的符号如下所述,

R1~R12各自独立地表示氢原子、卤素原子、具有或不具有取代基的碳原子数1~15的烷基或碳原子数5~20的芳基,

R1与R2相互不连接或者相互连接而形成5元环、6元环或7元环,此时,键合于碳环的氢不被取代或者被碳原子数1~20的烷基或碳原子数6~30的芳基取代,

X表示一价的阴离子,n表示X的个数,是0或1,

n为0时,A1表示下述式(A1)~(A6)中的任一者所示的阴离子性基团,

n为1时,A1表示卤素原子或-X-A2,-X-A2中,X为单键、醚键(-O-)、磺酰键(-SO2-)、酯键(-C(=O)-O-或-O-C(=O)-)或脲键(-NH-C(=O)-NH-),A2为碳原子数1~20的烷基或碳原子数6~30的芳基,

式(A1)~(A6)中,R101~R114各自独立地表示氢原子、碳原子数5~20的芳基或具有或不具有取代基的碳原子数1~10的烷基。

7.根据权利要求6所述的光学滤波器,其中,所述花青系化合物为下述式(D1-11)所示的花青系化合物,

其中,式(D1-11)中的符号如下所述,

R3~R12各自独立地表示氢原子、卤素原子或具有或不具有取代基的碳原子数1~10的烷基,

m表示0~2的整数,键合于包含-(CH2)m-的碳环的氢原子不被取代或者被碳原子数1~20的烷基或碳原子数6~30的芳基取代,

A1表示所述式(A1)~(A6)中的任一者所示的阴离子性基团。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AGC株式会社,未经AGC株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680012742.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top