[发明专利]电路基板及半导体装置有效
申请号: | 201680012836.0 | 申请日: | 2016-08-01 |
公开(公告)号: | CN107408538B | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 那波隆之;加藤宽正;梅原政司 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝高新材料公司 |
主分类号: | H01L23/13 | 分类号: | H01L23/13;H05K1/02 |
代理公司: | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 周欣;陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 路基 半导体 装置 | ||
1.一种电路基板,其具备:
具有第1面和第2面的陶瓷基板、
介由第1接合层与所述第1面接合的第1金属板、和
介由第2接合层与所述第2面接合的第2金属板,
所述第1接合层具有按照从所述第1面与所述第1金属板之间伸出的方式在所述第1面上延伸的第1伸出部,
所述第2接合层具有按照从所述第2面与所述第2金属板之间伸出的方式在所述第2面上延伸的第2伸出部,
所述陶瓷基板的3点弯曲强度为500MPa以上,
所述第1伸出部的伸出长度L1相对于所述第1伸出部的厚度H1的比L1/H1、及所述第2伸出部的伸出长度L2相对于所述第2伸出部的厚度H2的比L2/H2中的至少一者为0.5以上且3.0以下,所述L1、L2、H1、H2的单位为μm,
所述第1伸出部的10处的第1维氏硬度的平均值、及所述第2伸出部的10处的第2维氏硬度的平均值中的至少一者为250以下。
2.根据权利要求1所述的电路基板,其特征在于,所述第1维氏硬度的平均值及所述第2维氏硬度的平均值中的至少一者为90以上且230以下。
3.根据权利要求1所述的电路基板,其中,所述第1维氏硬度的平均值及所述第2维氏硬度的平均值中的至少一者为100以上且170以下。
4.根据权利要求1所述的电路基板,其中,所述比L1/H1及所述比L2/H2中的至少一者为1.0以上且2.0以下。
5.根据权利要求1所述的电路基板,其中,所述陶瓷基板为氮化硅基板。
6.根据权利要求1所述的电路基板,其中,所述第1及第2金属板中的至少一者为铜板,
所述铜板的厚度为0.6mm以上,
所述陶瓷基板的厚度为0.4mm以下。
7.根据权利要求1所述的电路基板,其中,所述伸出长度L1及所述伸出长度L2中的至少一者为40μm以下。
8.根据权利要求1所述的电路基板,其中,在所述第1金属板的包含厚度方向的截面中,所述第1金属板的侧面朝向所述第1金属板的上表面的外侧倾斜,
在所述第2金属板的包含厚度方向的截面中,所述第2金属板的侧面朝向所述第2金属板的上表面的外侧倾斜。
9.根据权利要求1所述的电路基板,其中,所述第1维氏硬度的最大值与最小值的差、及所述第2维氏硬度的最大值与最小值的差中的至少一者为50以下。
10.根据权利要求1所述的电路基板,其中,所述第1接合层及所述第2接合层中的至少一者包含Ag、Cu及Ti。
11.根据权利要求10所述的电路基板,其中,所述第1接合层及所述第2接合层中的至少一者进一步包含选自In、Sn及C中的至少一种元素。
12.根据权利要求1所述的电路基板,其中,所述电路基板具备多个所述第1金属板。
13.根据权利要求1所述的电路基板,其中,所述电路基板具备多个所述第1金属板,
所述多个第1金属板之间的最短距离为1.1mm以下。
14.一种半导体装置,其具备:权利要求1所述的电路基板、和
搭载于所述电路基板上的半导体元件。
15.根据权利要求14所述的半导体装置,其中,所述半导体装置具备多个所述半导体元件。
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