[发明专利]玻璃

说明书

技术领域

本发明涉及一种玻璃，具体而言，涉及一种适合于EL(OLED)显示器、液晶显示器的基板的玻璃。进而涉及一种适合于氧化物TFT、低温p-Si·TFT(LTPS)驱动的显示器的基板的玻璃。

背景技术

一直以来，作为液晶显示器等平板显示器、硬盘、滤波器、传感器等的基板，广泛使用玻璃。近年来，除现有的液晶显示器以外，基于自发光、高色彩再现性、高视野角、高速响应、高精细等理由，OLED显示器被广泛开发，并且一部分已得到实用化。

而且，智能电话等移动设备的液晶显示器、OLED显示器被要求面积小，且显示大量信息，因而需要超高精细的画面。此外，为了进行视频显示，还需要高速响应。

这样的用途中，优选为OLED显示器、或者由LTPS驱动的液晶显示器。OLED显示器凭借构成像素的OLED元件中流动电流而发光。因此，作为驱动TFT元件，使用低电阻、高电子迁移率的材料。作为该材料，除上述LTPS以外，以IGZO(铟、镓、锌氧化物)为代表的氧化物TFT受到关注。氧化物TFT为低电阻、高迁移率，且能够在较低的温度下形成。现有的p-Si·TFT，尤其LTPS由于在将非结晶Si(a-Si)的膜多晶化时使用的准分子激光的不稳定性，而在大面积的玻璃基板上形成元件的情况下，TFT特性容易不均，在TV用途等中，容易产生画面的显示不均。另一方面，氧化物TFT在大面积的玻璃基板上形成元件的情况下，TFT特性的均质性优异，因此作为有力的TFT形成材料而受到关注，且一部分已得到实用化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-216561号公报

发明内容

发明所要解决的课题

另外，显示器的薄型化中，一般使用化学蚀刻。该方法是通过将两块玻璃基板贴合而成的显示器面板浸渍于HF(氢氟酸)系药液中，从而使玻璃基板变薄的方法。

然而，现有的玻璃基板对HF系药液的耐受性高，因此有蚀刻速率非常慢的问题。若为了加快蚀刻速率，而提高药液中的HF浓度，则HF系溶液中不溶的微粒子会增多，结果，该微粒子容易附着于玻璃表面，从而在玻璃基板的表面，蚀刻的均匀性被破坏。

为了解决上述课题，降低玻璃组成中的SiO₂的含量，加快对于HF系药液的蚀刻速率的方法正被研究(参照专利文献1)。然而，若降低玻璃组成中的SiO₂的含量，则耐HCl性和应变点容易降低。

若玻璃基板的耐HCl性低，则在于玻璃基板上形成布线等金属膜后，利用HCl水溶液将不需要的金属膜去除的工序中，玻璃基板产生白浊，或反应生成物容易附着于玻璃表面。

若玻璃基板的应变点低，则p-Si·TFT的制造工序中，玻璃基板的热收缩增大，容易产生图案成形的偏差。

本发明是鉴于上述情况而完成的，其技术性课题在于创造一种对于HF系药液的蚀刻速率比以往更快、并且耐HCl性和应变点高的玻璃。

用于解决课题的手段