[发明专利]用于化学机械研磨的声学发射监控和终点

权利要求书

1.一种化学机械研磨设备，包括：

平台，用以支撑研磨垫；及

原位声学监控系统，用以监控来自基板的声学发射并且产生信号，所述原位声学监控系统包括声学发射传感器及波导，所述声学发射传感器由所述平台支撑，所述波导经定位成延伸穿过所述研磨垫以将所述声学发射传感器耦合至所述研磨垫中的槽中的浆料。

2.如权利要求1所述的设备，包括所述研磨垫，所述研磨垫具有研磨层及所述研磨层的研磨表面中的多个浆料输送槽，且其中所述槽是所述浆料输送槽之一。

3.如权利要求2所述的设备，其中所述波导的尖端被定位在所述研磨表面的下方。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述原位声学监控系统包括多个平行波导。

5.如权利要求1所述的设备，其中所述波导的位置是垂直可调整的。

6.一种化学机械研磨设备，包括：

平台，用以支撑研磨垫；及

原位声学监控系统，用以监控来自基板的声学发射并且产生信号，所述原位声学监控系统包括声学传感器、研磨垫材料的主体，及波导，所述声学传感器由所述平台支撑，所述研磨垫材料的主体从所述研磨垫机械地去耦，且所述波导延伸穿过所述研磨垫并且将所述声学传感器耦合至所述研磨垫材料的主体。

7.如权利要求6所述的设备，包括所述研磨垫，且其中所述研磨垫材料是与所述研磨垫中的研磨层相同的材料。

8.如权利要求6所述的设备，包括所述研磨垫，且其中所述主体通过缝隙而与所述研磨垫分离。

9.如权利要求8所述的设备，还包括密封件，以防止浆料通过所述缝隙泄漏。

10.如权利要求6所述的设备，包括冲洗系统，以将流体引导到所述波导的尖端下方的凹槽中。

11.一种化学机械研磨设备，包括：

平台，用以支撑研磨垫；

垫绳支撑件，所述垫绳支撑件经配置以将研磨材料的垫绳保持于所述研磨垫中的孔中；以及

原位声学监控系统，用以监控来自基板的声学发射并且产生信号，所述原位声学监控系统包括声学传感器及波导，所述声学传感器由所述平台支撑，所述波导经定位成延伸穿过所述研磨垫以将所述声学传感器耦合至所述垫绳下方的区域。

12.如权利要求11所述的设备，其中所述垫绳支撑件包括馈送卷轴及回收卷轴，且所述垫绳支撑件经配置以将所述垫绳从所述馈送卷轴导引至所述回收卷轴。

13.如权利要求11所述的设备，包括冲洗系统，以将流体引导到所述波导与所述垫绳之间的区域。

14.如权利要求11所述的设备，其中所述波导的尖端包括开槽以接收所述垫绳。

15.如权利要求11所述的设备，包括所述研磨垫和所述垫绳，且其中所述垫绳通过缝隙而与所述研磨垫分离。

16.一种化学机械研磨设备，包括：

平台，用以支撑研磨垫；及

原位声学监控系统，所述原位声学监控系统包括多个声学传感器，所述多个声学传感器由所述平台支撑在多个不同位置处；及

控制器，所述控制器经配置以从所述多个声学传感器接收信号，并从所述信号判定声学事件在基板上的位置，

其中，所述声学传感器中的每一个被耦合至延伸穿过所述研磨垫的波导。

17.如权利要求16所述的设备，其中所述控制器经配置以判定所述信号中的所述声学事件之间的时间差，并基于所述时间差判定所述位置。