[发明专利]弹性波装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201680014166.6 申请日: 2016-03-09
公开(公告)号: CN107408936B 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 岸本谕卓 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H03H9/25 分类号: H03H9/25;H03H3/02;H03H3/08;H03H9/145;H03H9/17
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 赵琳琳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 弹性 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种弹性波装置,具备:

压电体层,具有第一主面和与该第一主面对置的第二主面;

声反射层,层叠在所述压电体层的所述第一主面上;

激励电极,设置在所述压电体层;以及

支承层,

所述声反射层位于在从所述压电体层的所述第二主面侧的俯视下至少与所述激励电极重叠的位置,

所述支承层设置为至少在从所述压电体层的第二主面侧的俯视下包围所述声反射层,

所述声反射层具有多个声阻抗层,

在所述多个声阻抗层中的至少一层的外侧配置有空隙。

2.根据权利要求1所述的弹性波装置,其中,

所述支承层设置为在从所述压电体层的所述第二主面侧的俯视下包围所述压电体层。

3.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,

所述多个声阻抗层具有至少一层低声阻抗层和声阻抗比所述低声阻抗层高的至少一层高声阻抗层。

4.根据权利要求3所述的弹性波装置,其中,

所述低声阻抗层以及所述高声阻抗层中的任一方为所述支承层的一部分。

5.根据权利要求4所述的弹性波装置,其中,

所述低声阻抗层以及所述高声阻抗层中的在外侧配置有所述空隙的层是金属层。

6.根据权利要求4或5所述的弹性波装置,其中,

所述空隙位于所述多个声阻抗层中的在层叠方向上连续的至少两层的外侧。

7.根据权利要求1、2、4以及5中的任一项所述的弹性波装置,其中,

所述支承层具备具有底部的开口部,

所述声反射层与所述底部接触。

8.根据权利要求1、2、4以及5中的任一项所述的弹性波装置,其中,

所述激励电极为IDT电极,并且所述IDT电极设置在所述压电体层的所述第二主面。

9.根据权利要求1、2、4以及5中的任一项所述的弹性波装置,其中,

所述激励电极具有第一激励电极、第二激励电极,所述第一激励电极设置在所述压电体层的所述第一主面,所述第二激励电极设置在所述第二主面。

10.根据权利要求1、2、4以及5中的任一项所述的弹性波装置,其中,

还具备:加固基板,设置在所述支承层的与所述压电体层侧相反侧。

11.根据权利要求1、2、4以及5中的任一项所述的弹性波装置,其中,

所述声反射层或者所述多个声阻抗层中的至少一层为氧化硅。

12.一种弹性波装置的制造方法,具备:

在具有第一主面和与该第一主面对置的第二主面并且由压电体层构成的母基板的所述第一主面上,层叠声反射层的工序;

对所述声反射层进行图案化,并分割为多个声反射层的工序;

在所述母基板的所述第一主面上以及所述多个声反射层上设置支承层的工序;

在所述母基板设置多个激励电极的工序;以及

通过对所述支承层进行划片,从而分割为单个的弹性波装置的工序,

设置所述支承层的工序,是将所述支承层设置为在从所述压电体层的所述第二主面侧的俯视下包围各所述声反射层的工序,

层叠所述声反射层的工序,是将所述声反射层设置于在从所述压电体层的所述第二主面侧的俯视下至少与各所述激励电极重叠的位置的工序。

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