[发明专利]集电环、支承机构以及等离子体处理装置

权利要求书

1.一种集电环，其具备：

导电性的转子，其能够绕旋转轴线旋转；

导电性的定子，其与所述转子同轴地设置；

多个导电性的球体，其配置于所述转子与所述定子之间，形成所述转子与所述定子之间的电气路径；

导电性的螺旋弹簧，其设于所述转子和所述定子中的一者与所述多个导电性的球体之间，相对于所述旋转轴线沿着周向延伸，该螺旋弹簧与所述转子、所述定子中的所述一者以及所述多个导电性的球体接触；以及

导电性的另一螺旋弹簧，其设于所述转子和所述定子中的另一者与所述多个导电性的球体之间，相对于所述旋转轴线沿着周向延伸，与所述转子、所述定子中的所述另一者以及所述多个导电性的球体接触，

其中，所述电气路径包括：所述螺旋弹簧与所述转子和所述定子中的所述一者的多点接触，所述螺旋弹簧与所述多个导电性的球体的多点接触、所述另一螺旋弹簧与所述多个导电性的球体的多点接触、以及所述另一螺旋弹簧与所述转子和所述定子中的所述另一者的多点接触。

2.根据权利要求1所述的集电环，其中，

所述螺旋弹簧和所述另一螺旋弹簧沿着所述旋转轴线延伸的方向排列。

3.根据权利要求1所述的集电环，其中，

所述螺旋弹簧和所述另一螺旋弹簧相对于所述旋转轴线沿着放射方向排列。

4.根据权利要求1所述的集电环，其中

所述螺旋弹簧是斜圈弹簧。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的集电环，其中，

所述螺旋弹簧和所述另一螺旋弹簧是斜圈弹簧。

6.一种支承机构，其用于在等离子体处理装置的处理容器内支承被处理体，其中，

该支承机构具备：

保持部，其用于保持被处理体，该保持部能够以第1轴线为中心旋转；

驱动装置，其使所述保持部旋转；

旋转连接器，其具有多个集电环，该多个集电环分别是权利要求1～5中任一项所述的集电环，设置成所述旋转轴线与所述第1轴线一致，

所述保持部具有：

下部电极；

静电卡盘，其设于所述下部电极上；

多个导体，其以各自的中心轴线与所述第1轴线一致的方式同轴地设置，该多个导体包括与所述静电卡盘的电极膜连接的第1导体和与所述下部电极连接的第2导体，

所述多个集电环中的第1集电环与所述第1导体电连接，所述多个集电环中的第2集电环与所述第2导体电连接。

7.根据权利要求6所述的支承机构，其中，

该支承机构还具备：

容器部，其与所述保持部一起划分形成密闭的空间；

空心的倾斜轴部，其与所述容器部结合，沿着与所述第1轴线正交的第2轴线延伸；

另一驱动装置，其使所述倾斜轴部绕所述第2轴线旋转，

所述多个导体、使所述保持部旋转的所述驱动装置、以及所述旋转连接器设于所述空间内。

8.一种等离子体处理装置，其用于对被处理体进行等离子体处理，其中，

该等离子体处理装置具备：

处理容器；

气体供给系统，其向所述处理容器内供给气体；

等离子体源，其使供给到所述处理容器内的气体激发；

权利要求6或7所述的支承机构，该支承机构在所述处理容器内利用所述保持部保持被处理体；

排气系统，其用于进行所述处理容器内的空间的排气；

直流电源，其设于所述处理容器的外部，产生向所述静电卡盘的所述电极膜施加的电压；

偏压供电部，其设于所述处理容器的外部，产生向所述下部电极施加的偏压，

所述直流电源借助第1配线与所述第1集电环连接，

所述偏压供电部借助第2配线与所述第2集电环连接。