[发明专利]多环芳香族化合物及发光层形成用组合物与其用途有效
申请号: | 201680014305.5 | 申请日: | 2016-03-02 |
公开(公告)号: | CN107406759B | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 畠山琢次;近藤靖宏;中本启一;梁井元树 | 申请(专利权)人: | 学校法人关西学院;捷恩智株式会社 |
主分类号: | C09K11/06 | 分类号: | C09K11/06;C07F5/02;H01L51/50 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 彭雪瑞;臧建明 |
地址: | 日本兵库县西*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 芳香族 化合物 发光 形成 组合 与其 用途 | ||
1.一种发光层形成用组合物,其用以涂布形成有机电场发光元件的发光层,所述发光层形成用组合物包含:
作为第1成分的选自由下述通式(A-1)所表示的化合物及下述通式(A-2)所表示的化合物所组成的群组中的至少一种;
作为第2成分的至少一种三重态能量为1.8eV~3.0eV的化合物;以及
作为第3成分的至少一种有机溶剂;
通式(A-1)中,
R1~R11分别独立地为氢、芳基、杂芳基、二芳基氨基、二杂芳基氨基、芳基杂芳基氨基或芳氧基,这些中的至少一个氢进而可由芳基、杂芳基或二芳基氨基取代,
R1~R11中的邻接的基彼此可键结并与a环、b环或c环一同形成芳基环或杂芳基环,所形成的环中的至少一个氢可由芳基、杂芳基、二芳基氨基、二杂芳基氨基、芳基杂芳基氨基或芳氧基取代,这些中的至少一个氢进而可由芳基、杂芳基或二芳基氨基取代,
所述式(A-1)所表示的化合物中的至少一个氢由下述通式(FG-1)所表示的基或碳数1~24的烷基取代;
通式(A-2)中,
R1~R16分别独立地为氢、芳基、杂芳基、二芳基氨基、二杂芳基氨基、芳基杂芳基氨基或芳氧基,这些中的至少一个氢进而可由芳基、杂芳基或二芳基氨基取代,
R1~R16中的邻接的基彼此可键结并与a环、b环、c环或d环一同形成芳基环或杂芳基环,所形成的环中的至少一个氢可由芳基、杂芳基、二芳基氨基、二杂芳基氨基、芳基杂芳基氨基或芳氧基取代,这些中的至少一个氢进而可由芳基、杂芳基或二芳基氨基取代,
所述式(A-2)所表示的化合物中的至少一个氢由下述通式(FG-1)所表示的基或碳数1~24的烷基取代;
通式(FG-1)中,
R分别独立地为氟、三甲基硅烷基、三氟甲基、碳数1~24的烷基或碳数3~24的环烷基,所述烷基中的任意的-CH2-可由-O-取代,所述烷基中的除直接键结于苯基或亚苯基的-CH2-以外的任意的-CH2-可由碳数6~24的亚芳基取代,所述环烷基中的至少一个氢可由碳数1~24的烷基或碳数6~12的芳基取代,
当邻接的两个R为烷基或环烷基时,它们可键结而形成环,
m分别独立地为0~4的整数,
n为0~5的整数,
p为1~5的整数。
2.根据权利要求1所述的发光层形成用组合物,其中所述第1成分含有所述式(A-1)所表示的化合物。
3.根据权利要求1或2所述的发光层形成用组合物,其中
所述式(A-1)中,
R1~R11分别独立地为氢、碳数6~30的芳基、碳数2~30的杂芳基或二芳基氨基,这些中的至少一个氢进而可由碳数6~30的芳基、碳数2~30的杂芳基或二芳基氨基取代,其中所述二芳基氨基的芳基为碳数6~12的芳基,
R1~R11中的邻接的基彼此可键结并与a环、b环或c环一同形成碳数9~16的芳基环或碳数6~15的杂芳基环,所形成的环中的至少一个氢可由碳数6~30的芳基、碳数2~30的杂芳基或二芳基氨基取代,这些中的至少一个氢进而可由碳数6~30的芳基、碳数2~30的杂芳基或二芳基氨基取代,其中所述二芳基氨基的芳基为碳数6~12的芳基,
所述式(A-1)所表示的化合物中的至少一个氢由所述式(FG-1)所表示的基或碳数1~24的烷基取代。
4.根据权利要求1或2所述的发光层形成用组合物,其中
所述式(A-1)中,
R1~R11分别独立地选自由氢及下述式(RG-1)~式(RG-10)所表示的基所组成的群组中,
下述式(RG-1)~式(RG-10)所表示的基在*处与所述式(A-1)键结,
所述式(A-1)所表示的化合物中的至少一个氢由所述式(FG-1)所表示的基或碳数7~24的烷基取代。
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