[发明专利]附有透明导电膜的玻璃基板及其制造方法在审
申请号: | 201680014557.8 | 申请日: | 2016-01-08 |
公开(公告)号: | CN107406307A | 公开(公告)日: | 2017-11-28 |
发明(设计)人: | 和田正纪;柏谷健;平尾彻 | 申请(专利权)人: | 日本电气硝子株式会社 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;B23K26/351;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/28 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 龙淳 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 附有 透明 导电 玻璃 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种附有透明导电膜的玻璃基板及其制造方法。
背景技术
在等离子体显示器、电致发光元件等之中,已知将作为电极使用的透明导电膜形成于玻璃基板等透明基板上,将透明导电膜利用激光进行图案化(专利文献1和专利文献2)。
在有机电致发光元件等中,为了提高光提取效率,在玻璃基板与透明导电膜之间,有时会设置折射率比玻璃基板高的基底玻璃层。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2007-207554号公报
专利文献2:日本特开2006-267834号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
本发明的发明人发现,在设置了基底玻璃层的情况下,存在使用激光对透明导电膜进行图案化时,透明导电膜或基底玻璃层容易发生变色、损伤这样的技术问题。
本发明的目的在于,提供一种对形成于基底玻璃层之上的透明导电膜利用激光进行图案化时,能够抑制透明导电膜或基底玻璃层发生变色、损伤的附有透明导电膜的玻璃基板及其制造方法。
用于解决技术问题的方法
本发明的附有透明导电膜的玻璃基板的特征在于,具备玻璃基板、设置在玻璃基板上的基底玻璃层、和设置在基底玻璃层之上的利用激光进行了图案化的透明导电膜,在激光的波长下,基底玻璃层所具有的吸收率小于透明导电膜的吸收率且大于玻璃基板的吸收率,利用激光进行图案化除去透明导电膜的一部分而成的图案化区域具有第一线状部分、第二线状部分和将第一线状部分与第二线状部分相连接的连接部分,第一线状部分与第二线状部分所成角度为120°以下,连接部分的曲率半径为0.5mm以上。
作为基底玻璃层,可以列举包含铋系玻璃的玻璃层。
作为基底玻璃层,可以列举所具有的折射率高于玻璃基板的折射率的玻璃层。
作为激光,例如能够使用飞秒激光。
优选在玻璃基板的设置有基底玻璃层的表面形成有凹凸。
本发明的附有透明导电膜的玻璃基板例如用作有机电致发光元件用玻璃基板。
本发明的制造方法是能够制造上述本发明的附有透明导电膜的玻璃基板的方法,该方法的特征在于,具备:制作在基底玻璃层之上形成有图案化前的透明导电膜的玻璃基板的工序;和使激光依次或以颠倒的顺序依次扫描第一线状部分、连接部分和第二线状部分,对透明导电膜照射激光,形成图案化区域的工序。
发明效果
根据本发明,在对形成于基底玻璃层之上的透明导电膜利用激光进行图案化时,能够抑制透明导电膜或基底玻璃层发生变色、损伤。
附图说明
图1是表示本发明的一个实施方式的附有透明导电膜的玻璃基板的示意剖面图。
图2是表示本发明的一个实施方式的附有透明导电膜的玻璃基板的示意俯视图。
图3是将图2所示的第一线状部分、第二线状部分和连接部分扩大示出的示意俯视图。
图4是将比较例的第一线状部分、第二线状部分和连接部分扩大示出的示意俯视图。
具体实施方式
以下,对于优选实施方式进行说明。但,以下的实施方式仅为例示,本发明不受以下的实施方式所限定。另外,在各附图中,有时对实质上具有相同功能的部件以相同的符号进行注释。
图1是表示本发明的一个实施方式的附有透明导电膜的玻璃基板的示意剖面图。图2是表示本发明的一个实施方式的附有透明导电膜的玻璃基板的示意俯视图。图1是沿图2所示的I-I线的示意剖面图。如图1所示,本实施方式的附有透明导电膜的玻璃基板6具备玻璃基板1、设置在玻璃基板1的主面1a上的基底玻璃层2、和设置在基底玻璃层2的主面2a之上的透明导电膜3。在玻璃基板1的主面1a形成有凹凸。因此,基底玻璃层2设置在形成有凹凸的主面1a之上。
在透明导电膜3形成有利用激光进行图案化除去透明导电膜3的一部分而成的图案化区域10。透明导电膜3通过图案化区域10被分割为第一电极4和第二电极5。
本实施方式的附有透明导电膜的玻璃基板6例如能够用作有机电致发光元件用玻璃基板。在用作有机电致发光元件用玻璃基板的情况下,在附有透明导电膜的玻璃基板6之上设置有有机电致发光层。有机电致发光层发光,从有机电致发光层射出的光通过透明导电膜3和玻璃基板1,被提取至外部。为了提高从有机电致发光层射出的光的提取效率,在透明导电膜3与玻璃基板1之间设置有基底玻璃层2。
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