[发明专利]压力操作式开关

权利要求书

1.一种用于提供负压治疗的系统，所述系统包括：

负压源；

能量源；以及

开关，所述开关包括：

壳体，所述壳体形成室并且具有流体入口、流体出口、和环境压力开口；

电联接至所述负压源上的第一导体；

电联接至所述能量源上的第二导体；以及

隔膜，所述隔膜具有使得所述第一导体与所述第二导体电联接的第一位置以及将所述第一导体和所述第二导体分开的第二位置，所述隔膜被配置成响应于控制压力与治疗压力之间的差异而在所述第一位置与所述第二位置之间移动。

2.如权利要求1所述的系统，进一步包括第三导体，所述第三导体被布置在所述隔膜上并且靠近所述第一导体和所述第二导体。

3.如权利要求1所述的系统，其中，所述开关进一步包括：

偏置构件，所述偏置构件被布置在所述室中并且具有联接至所述隔膜上的第一端以及联接至所述壳体上的第二端；以及

将所述室与所述环境压力开口流体隔离的隔膜。

4.如权利要求3所述的系统，其中，所述隔膜被布置在所述室中，并且所述偏置构件被配置成用于使所述隔膜偏置到所述第一位置。

5.如权利要求4所述的系统，其中，所述开关进一步包括校准器，所述校准器联接至所述偏置构件的第二端上并且可操作来校准使所述隔膜从所述第一位置移动至所述第二位置所要求的差动力。

6.如权利要求3所述的系统，其中，所述隔膜跨所述环境压力开口联接至所述壳体上，并且所述偏置构件被配置成用于使所述隔膜偏置到所述第二位置。

7.如权利要求6所述的系统，其中，所述开关进一步包括：

校准弹簧，所述校准弹簧具有操作性地联接至所述隔膜上的第一端；以及

联接至所述校准弹簧的第二端上的校准器，所述校准器可操作来校准使所述隔膜从所述第二位置移动至所述第一位置所要求的差动力。

8.如权利要求1所述的系统，进一步包括：

印刷电路板；

联接至所述印刷电路板上的控制器；

联接至所述印刷电路板上并且电联接至所述控制器的至少一个发光二极管；并且

其中所述第一导体和所述第二导体电联接至所述控制器，并且所述控制器被配置成用于响应于所述隔膜处于所述第一位置和所述第二位置中的至少一个位置来操作所述至少一个发光二极管。

9.如权利要求1所述的系统，进一步包括流体联接至所述负压源和所述开关的调节器，所述调节器包括：

供应室，所述供应室被适配成用于流体联接至敷料；

通过端口流体联接至所述供应室的进给室；以及

调节阀，所述调节阀联接至所述进给室并且可操作来往复运动以便基于环境压力与治疗压力之间的差异来控制穿过所述端口的流体连通。

10.如权利要求1所述的系统，其中，所述开关进一步包括：

供应室，所述供应室被适配成用于流体联接至敷料；

通过端口流体联接至所述供应室的进给室；以及

隔膜，所述隔膜联接至所述进给室并且可操作来往复运动以便基于环境压力与治疗压力之间的差异来控制穿过所述端口的流体连通。

11.如权利要求1所述的系统，其中，所述第一导体和所述第二导体被联接至印刷电路板。

12.如权利要求11所述的系统，其中，所述第一导体和所述第二导体是装有弹簧的导体。

13.如权利要求1所述的系统，进一步包括被适配成流体联接至组织部位的敷料。