[发明专利]使用光调节自由基聚合的增材制造方法

权利要求书

1.一种制作三维物体的方法，所述方法包含：

(a)将甲基(丙烯酸酯)、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯腈、苯乙烯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、乙烯基咔唑、乙烯基吡啶、乙烯基醚、氯乙烯单体、多官能单体和多官能预聚物中的至少一种与有机光氧化还原催化剂和引发剂组合以提供反应混合物，其中所述有机光氧化还原催化剂是吩噻嗪衍生物或吩恶嗪衍生物，并且所述引发剂为2-溴丙酸乙酯或2-溴丙酸苯甲酯；

(b)沉积所述反应混合物；

(c)通过用光源照射所述反应混合物聚合所述单体，其中所述反应混合物中的单体转化率通过控制所述反应混合物暴露于光的时间量；和/或通过控制到达所述反应混合物的光强度来调节；和

(d)重复步骤(b)和(c)直到形成所述三维物体。

2.根据权利要求1所述的制作三维物体的方法，其中所述有机光氧化还原催化剂是苯基吩噻嗪。

3.根据权利要求1所述的制作三维物体的方法，其中所述有机光氧化还原催化剂具有式A-Z，其中

各个A独立地为：

其中

各个Y独立地为O或S；

o和q独立地为零或1到4的整数；

R¹¹和R¹²独立地选自以下组成的组：卤素、氰基、羟基、氨基、单(C₁-C₂₀)烷氨基或二(C₁-C₂₀)烷氨基、单芳基氨基或二芳基氨基、C₁-C₆烷基、卤代(C₁-C₆)烷基、C₁-C₆烷氧基、卤代(C₁-C₆)烷氧基、C₃-C₇环烷基、芳基、芳氧基、烷氧基芳基和杂芳基，其中各个烷基、环烷基、芳基和杂芳基任选被独立地选自以下的一个或多个基团取代：C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基、卤素、羟基、氨基、单(C₁-C₆)烷氨基或二(C₁-C₆)烷氨基、卤代(C₁-C₆)烷基和卤代(C₁-C₆)烷氧基；

和

各个Z为R¹³、-B-(A)₂、-B-(R¹³)₂、-B(A)(R¹³)、-N-(A)₂、-N-(R¹³)₂、-N(A)(R¹³)、-Si-(R¹³)₃、-Si(A)₃、-Si(A)(R¹³)₂、-Si(A)₂(R¹³)、-P-(A)₂、-P-(R¹³)₂、-P(R¹³)(A)、-P(O)-(OR¹³)₂、-P(O)-(R¹³)₂、-P(O)-(R¹³)(A)或-P(O)-(A)₂，其中

其中R¹³为H、C₁-C₂₀烷基、-C(O)C₁-C₂₀烷基、C₃-C₇环烷基、芳基、芳基(C₁-C₆烷基)、杂芳基或杂芳基(C₁-C₆烷基)，其中各个烷基、环烷基、芳基和杂芳基任选被独立地选自以下的一个或多个基团取代：C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基、卤素、羟基、氨基、单(C₁-C₆)烷氨基或二(C₁-C₆)烷氨基、卤代(C₁-C₆)烷基、卤代(C₁-C₆)烷氧基、C₃-C₇环烷基、芳基、芳氧基、烷氧基芳基、杂芳基、杂芳氧基或基团A。