[发明专利]基板污染物分析装置及基板污染物分析方法在审
申请号: | 201680015283.4 | 申请日: | 2016-03-10 |
公开(公告)号: | CN107567652A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 田弼权;丘大焕;朴准虎;朴相绚;成墉益 | 申请(专利权)人: | 非视觉污染分析科学技术有限公司;田弼权;丘大焕 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/02 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 孙昌浩,李盛泉 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 污染物 分析 装置 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种能够以In-Line分析金属原子等的污染物的基板污染物分析装置及基板污染物分析方法。
背景技术
已公开的现有半导体晶圆的污染物分析装置有韩国授权专利第3833264号(2003.5.9公告),所述污染物分析装置公开了为分析被吸附到晶圆表面的金属性污染源而自动扫描晶圆表面以捕集污染物的装置的结构等。
但是,所述基板污染物分析装置需要将扫描的样品装入样品杯中,由作业者将其带走并用分析器分析,因此需要作业者的随时确认及作业时间,存在移动过程中的污染及安全性问题,成为实时或迅速分析的阻碍因素。
并且,现有的污染物分析装置及方法存在扫描及蚀刻等所需的药液制造上的不便及污染物控制问题、分析器的校准问题及使用过程中降低敏感度的问题、需要废弃为了分析而使用的监控晶圆的问题等。
所述现有技术的问题及课题的认识并不是本发明的技术领域中的普通技术人员不言自明的,因此不能基于这种认识来判断与在先技术比较的本发明的创造性。
发明内容
技术问题
本发明的目的在于提供一种能够解决至少一种以上所述现有技术的问题的基板污染物分析装置及分析方法,
本发明的目的在于提供一种无需作业者的手动作业且能够解决移动过程中的污染及安全性问题并能够实时或迅速分析的基板污染物分析装置及分析方法。
并且,本发明的目的在于提供一种解决了药液制造上的不便及污染物控制问题、分析器的校准问题及使用过程中降低敏感度的问题的基板污染物分析装置及分析方法。
并且,本发明的目的在于提供一种能够再利用为了分析而使用的监控晶圆的问题的基板污染物分析装置及分析方法。
并且,本发明的目的在于提供一种能够以In-Line自动分析的基板污染物分析装置及基板污染物分析方法。
本发明中要解决的技术问题并不限定于以上涉及的技术问题,未涉及的其他技术问题可通过以下记载被本发明技术领域的普通技术人员所明确理解。
技术手段
本发明的一样态的基板污染物分析装置作为将从分析对象基板利用扫描喷嘴扫描的样品溶液通过流路从所述扫描喷嘴移送到分析器的基板污染物分析装置,其特征在于,包括:样品管,具有装载所述样品溶液的空间;转换阀,与所述样品管结合,至少具有将所述样品溶液装载到所述样品管的装载部位和将所述装载的所述样品溶液喷射到所述分析器处的喷射部位,所述样品溶液装载到所述样品管时所述样品溶液的前后包括气体区间,还包括:传感器,设置在所述样品管且区分感测所述气体区间与所述样品溶液。
根据所述基板污染物分析装置,其特征在于,所述传感器为液体传感器。
根据所述基板污染物分析装置,其特征在于,所述液体传感器为光传感器或近距离传感器。
根据所述基板污染物分析装置,其特征在于,在所述装载部位中所述传感器感测到的结果为气体及液体的顺序时,判断为所述样品溶液从所述扫描喷嘴到达所述样品管。
根据所述基板污染物分析装置,其特征在于,在所述喷射部位,所述传感器感测到的结果为液体及气体的顺序时,判断为所述样品溶液向所述分析器处移动。
根据本发明的一样态的基板污染物分析装置,其特征在于,作为将从分析对象基板利用扫描喷嘴扫描的样品溶液通过流路从所述扫描喷嘴移送到分析器的基板污染物分析装置,其特征在于,包括:样品管,具有装载所述样品溶液的空间;转换阀,与所述样品管结合,至少具有将所述样品溶液装载到所述样品管的装载部位和将所述装载的所述样品溶液喷射到所述分析器处的喷射部位,将所述样品溶液从所述喷射部位向所述分析器处喷射的同时,至少清洗从所述扫描喷嘴到所述转换阀为止的流路。
根据所述基板污染物分析装置,其特征在于,包括:用于将所述样品溶液装载到所述样品管的第一定量泵和用于所述清洗的第一泵,所述第一定量泵和所述第一泵连接到所述转换阀的相同口,所述第一泵的容量大于所述第一定量泵的容量。
根据所述基板污染物分析装置,其特征在于,还包括:第二定量泵,当位于所述喷射部位时,用去离子水将所述装载的样品溶液推动到所述分析器处。
根据所述基板污染物分析装置,其特征在于,所述样品管为样品环。
根据所述基板污染物分析装置,其特征在于,所述转换阀为6口喷射阀。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于非视觉污染分析科学技术有限公司;田弼权;丘大焕,未经非视觉污染分析科学技术有限公司;田弼权;丘大焕许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680015283.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造