[发明专利]光源装置、照明装置和投影仪有效
申请号: | 201680015479.3 | 申请日: | 2016-03-11 |
公开(公告)号: | CN107429886B | 公开(公告)日: | 2019-03-22 |
发明(设计)人: | 松原贵之;秋山光一;平野训之 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | F21S2/00 | 分类号: | F21S2/00;F21V9/45;G02B19/00;G03B21/00;G03B21/14;F21Y115/30 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;邓毅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光源 装置 照明 投影仪 | ||
1.一种光源装置,其具有:第1光源单元,其射出第1光线;第2光源单元,其射出包含有在第1方向上并排的第2光线和第3光线的光线束;缩小光学系统,其在所述第1方向上缩小所述光线束作为缩小光线束射出;以及合成光学系统,其通过使所述第1光线透过或反射并使所述缩小光线束反射或透过,对所述第1光线和所述缩小光线束进行合成,其中,
在设包含所述缩小光线束的光轴且与所述第1方向平行的面为基准面时,所述第1光线和所述基准面的距离不同于所述第2光线和所述基准面的距离,
所述缩小光学系统在所述第1方向上缩小所述第2光线和所述第3光线之间的间隔,将所述第2光线和所述第3光线分别作为第4光线和第5光线射出,
所述合成光学系统具有:透光区域,其具有与所述基准面平行的长边;以及光反射区域,其具有与所述基准面平行的长边,
所述第1光线入射到所述透光区域和所述光反射区域中的一方,所述第4光线和所述第5光线入射到所述透光区域和所述光反射区域中的另一方。
2.根据权利要求1所述的光源装置,其中,
所述第2光线的截面形状和所述第3光线的截面形状均在所述第1方向上具有长度方向。
3.根据权利要求1或2所述的光源装置,其中,
该光源装置还具有第2缩小光学系统,
所述第1光源单元还射出第6光线,
所述第6光线在与所述第1方向交叉的第2方向上与所述第1光线并排,
所述第2缩小光学系统在所述第2方向上缩小所述第1光线和所述第6光线之间的间隔,将所述第1光线和所述第6光线分别作为第7光线和第8光线射出,
所述第7光线和所述第8光线入射到所述透光区域和所述光反射区域中的一方。
4.一种照明装置,其具有:
根据权利要求1~3中的任意一项所述的光源装置;
波长转换元件;以及
导光光学系统,其将所述第1光、所述第4光线和所述第5光线的至少一部分引导至所述波长转换元件。
5.一种投影仪,其具有:
权利要求4所述的照明装置;
光调制装置,其根据图像信息对从所述照明装置射出的光进行调制,由此形成图像光;以及
投射光学系统,其投射所述图像光。
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