[发明专利]脂质合成的杂环调节剂

权利要求书

1.一种式(IX)化合物：

或其药学上可接受的盐，其中：

R¹是H、-CN、卤素、C₁-C₄直链或支链烷基、-O-(C₃-C₅环烷基)、-O-(C₁-C₄直链或支链烷基)，其中：

C₃-C₅环烷基任选地包括氧或氮杂原子；并且

当R¹不是H、-CN或卤素时，它任选地被一个或多个卤素取代；

每个R²独立地是氢、卤素或者C₁-C₄直链或支链烷基；

R³是H、-OH或卤素；

R²¹是H、卤素、C₁-C₄直链或支链烷基、C₃-C₅环烷基，其中所述C₃-C₅环烷基任选地包括氧或氮杂原子；

R²²是H、卤素或C₁-C₂烷基；

R²⁴是H、C₁-C₄直链或支链烷基、-(C₁-C₄烷基)_t-OH、-(C₁-C₄烷基)_t-O_t-(C₃-C₅环烷基)或-(C₁-C₄烷基)_t-O-(C₁-C₄直链或支链烷基)，其中：

t是0或1；

所述C₃-C₅环烷基任选地包括氧或氮杂原子；

L¹是CR²³或N；

L²是CH或N；

L¹或L²中的至少一个是N；并且

R²³是H或者C₁-C₄直链或支链烷基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中R²⁴是C₁-C₄直链或支链烷基或者-(C₁-C₄烷基)_t-O-(C₁-C₄直链或支链烷基)，其中t是0或1。

3.根据权利要求1或2所述的化合物，其中R²¹是卤素、C₁-C₄直链或支链烷基或C₃-C₅环烷基，其中所述C₃-C₅环烷基任选地包括氧或氮杂原子。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的化合物，其中R³是H或卤素。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的化合物，其中R¹是卤素、-CN或C₁-C₂卤烷基。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的化合物，其中L¹和L²都是N。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的化合物，其中R²¹是C₁-C₂烷基或C₃-C₅环烷基并且R²²是C₁-C₂烷基。