[发明专利]用于钢基材的非金属涂层及其形成方法有效
申请号: | 201680015843.6 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN107405876B | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 马蒂亚斯·贝尔茨纳;拉尔夫·多姆尼克;爱德华·施莱歇特;达伦·沃马克 | 申请(专利权)人: | 麦格纳国际公司 |
主分类号: | B32B15/04 | 分类号: | B32B15/04;C23C14/06;C23C14/34;C23C16/34;C23C16/513;C23C28/04;C23C30/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡胜有;苏虹 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 基材 非金属 涂层 及其 形成 方法 | ||
1.一种用于钢基材或用于经涂覆的钢基材的非金属涂层,包括:
包含第一子层和第二子层的第一层,所述第一子层包含氮化硅,所述第二子层包含二氧化硅,所述第二子层呈现所述非金属涂层的用于暴露于漆的最外表面;和
包含氮化铬的第二层,所述第二层的厚度为3nm至30nm,
其中所述第一层和所述第二层形成总厚度不超过300nm的叠层结构,
其中所述第二层包含岛状团簇,其中岛状结构是非邻接的,其中来自所述第一层的材料占据所述岛状结构之间的间隙。
2.根据权利要求1所述的非金属涂层,其中所述第二层形成于所述第一层与所述基材之间。
3.根据权利要求1所述的非金属涂层,其中所述第一层的厚度为30nm至100nm。
4.根据权利要求1所述的非金属涂层,其中所述叠层结构的总厚度不超过100nm。
5.根据权利要求1所述的非金属涂层,其中所述第二层是基本上连续的,其中所述第二层的厚度是基本上均匀的。
6.根据权利要求1所述的非金属涂层,其中所述第一层的所述第一子层由所述氮化硅组成。
7.根据权利要求6所述的非金属涂层,其中所述第一层的所述第二子层由所述二氧化硅组成,所述第二层由所述氮化铬组成。
8.根据权利要求1所述的非金属涂层,其中所述第一层的所述第二子层由二氧化硅和具有式SiOxNy的氧氮化硅组成,其中0≤x≤2以及0≤y≤1.33。
9.一种经涂覆的钢组件,包括:
钢基材;
形成于所述钢基材上的非金属涂层,包括:
包含第一子层和第二子层的第一层,所述第一子层包含氮化硅,所述第二子层包含二氧化硅,所述第二子层呈现所述非金属涂层的用于暴露于漆的最外表面;和
包含氮化铬的第二层,所述第二层的厚度为3nm至30nm,
其中所述第一层和所述第二层形成总厚度不超过300nm的叠层结构,
其中所述第二层包含岛状团簇,其中岛状结构是非邻接的,其中
来自所述第一层的材料占据所述岛状结构之间的间隙。
10.根据权利要求9所述的经涂覆的钢组件,其中所述叠层结构的总厚度不超过130nm。
11.根据权利要求9所述的经涂覆的钢组件,其中所述叠层结构的总厚度不超过100nm。
12.根据权利要求9所述的经涂覆的钢组件,其中所述第二层形成于所述第一层与所述基材之间。
13.根据权利要求9所述的非金属涂层,其中所述第一层的所述第一子层由所述氮化硅组成。
14.根据权利要求9所述的非金属涂层,其中所述第一层的所述第二子层由二氧化硅和具有式SiOxNy的氧氮化硅组成,其中0≤x≤2以及0≤y≤1.33。
15.根据权利要求9所述的经涂覆的钢组件,其中所述第二层形成于在所述钢基材上的先前施加的涂层上。
16.根据权利要求15所述的经涂覆的钢组件,其中所述先前施加的涂层为金属层和金属合金层中的一者。
17.根据权利要求9所述的经涂覆的钢组件,其中所述第二层是基本上连续的,其中所述第二层的厚度是基本上均匀的。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于麦格纳国际公司,未经麦格纳国际公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680015843.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:导电结构体以及包括该导电结构体的电子器件
- 下一篇:功能梯度碳化物