[发明专利]偏振片及其制造方法有效
| 申请号： | 201680016691.1 | 申请日： | 2016-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN107430236B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 高田胜则;仲井宏太;樋口直孝;木村启介;北村吉绍;仓本浩贵 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏振 及其 制造 方法 | ||
1.一种偏振片，其具有起偏器和分别配置在该起偏器的两主表面上的一对保护膜，且具有由所述起偏器的端面较所述保护膜的端面更位于面方向内侧而形成的起偏器空隙部，
所述起偏器空隙部形成于所述起偏器的吸收轴方向端部，
所述偏振片形成有贯通孔，且在该贯通孔的周缘部形成有所述起偏器空隙部。
2.根据权利要求1所述的偏振片，其中，所述起偏器空隙部形成于自所述保护膜的端面朝面方向内侧至15μm以上的位置。
3.根据权利要求1或2所述的偏振片，其中，所述起偏器空隙部形成于自所述保护膜的端面朝面方向内侧至1000μm以下的位置。
4.根据权利要求1或2所述的偏振片，其中，所述起偏器空隙部形成于外缘部。
5.根据权利要求3所述的偏振片，其中，所述起偏器空隙部形成于外缘部。
6.一种偏振片，其具有起偏器和分别配置在该起偏器的两主表面上的一对保护膜，且具有由所述起偏器的端面较所述保护膜的端面更位于面方向内侧而形成的起偏器空隙部，
所述起偏器空隙部形成于所述起偏器的吸收轴方向端部，
所述起偏器空隙部形成于外缘部，
所述外缘部包含形成朝面方向内侧凸起的大致V字形状的部位。
7.根据权利要求6所述的偏振片，其中，所述起偏器空隙部形成于自所述保护膜的端面朝面方向内侧至15μm以上的位置。
8.根据权利要求6或7所述的偏振片，其中，所述起偏器空隙部形成于自所述保护膜的端面朝面方向内侧至1000μm以下的位置。
9.权利要求1至8中任一项所述的偏振片的制造方法，其包括如下工序：
使处理液与将保护膜分别层叠于起偏器的两主表面上而获得的层叠体进行接触。
10.根据权利要求9所述的制造方法，其中，所述处理液包含水。
11.根据权利要求9或10所述的制造方法，其中，所述处理液的液温为50℃以上。
12.根据权利要求9或10所述的制造方法，其包括如下工序：通过切断和/或冲裁加工而将所述层叠体成形为所期望的形状。
13.根据权利要求12所述的制造方法，其是通过照射激光而进行所述切断和/或冲裁加工。
14.根据权利要求13所述的制造方法，其中，所述激光为CO2激光。
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