[发明专利]用于改善嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的方法在审
| 申请号： | 201680017108.9 | 申请日： | 2016-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN107406660A | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | C.纳瓦罗;C.尼科利特;R.伊努布利;X.舍瓦利耶 | 申请（专利权）人： | 阿科玛法国公司 |
| 主分类号： | C08L53/00 | 分类号： | C08L53/00;G03F7/004;C08J5/18;C09D153/00;C08F212/08;C08F220/14;C08F297/02;G03F1/68 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 杨艳 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 改善 共聚物 有序 关键 尺寸 均匀 方法 | ||
1.可改善包括嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的方法，所述有序膜包括至少一种具有有序-无序转变温度(TODT)和至少一种Tg的嵌段共聚物与至少一种不具有TODT的嵌段共聚物的混合物，该混合物具有低于单独的嵌段共聚物的TODT的TODT，所述方法包括下列步骤：
-将至少一种具有TODT的嵌段共聚物与至少一种不具有TODT的嵌段共聚物在溶剂中混合，
-将该混合物沉积于表面上，
-在不具有TODT的嵌段共聚物的最高Tg与所述混合物的TODT之间的温度下将沉积在所述表面上的混合物固化。
2.根据权利要求1的方法，其中所述具有TODT的嵌段共聚物为二嵌段共聚物。
3.根据权利要求2的方法，根据所述方法，所述二嵌段共聚物的嵌段之一包括苯乙烯单体且另一嵌段包括甲基丙烯酸类单体。
4.根据权利要求3的方法，根据所述方法，所述二嵌段共聚物的嵌段之一包括苯乙烯且另一嵌段包括甲基丙烯酸甲酯。
5.根据权利要求1的方法，其中所述不具有TODT的嵌段共聚物为二嵌段共聚物。
6.根据权利要求5的方法，根据所述方法，所述二嵌段共聚物的嵌段之一包括苯乙烯单体且另一嵌段包括甲基丙烯酸类单体。
7.根据权利要求6的方法，根据所述方法，所述二嵌段共聚物的嵌段之一包括苯乙烯并且另一嵌段包括甲基丙烯酸甲酯。
8.根据权利要求1的方法，其中所述表面为自由的。
9.根据权利要求1的方法，其中所述表面为经引导的。
10.组合物，其包括至少一种具有TODT的嵌段共聚物和至少一种如下的嵌段共聚物：该或这些嵌段共聚物不具有TODT。
11.根据前述权利要求1至9任一项的方法用于产生光刻掩模或有序膜的用途。
12.根据权利要求11获得的光刻掩模或有序膜。
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