[发明专利]制备挠性有机‑无机层压材料的方法在审
| 申请号： | 201680017247.1 | 申请日： | 2016-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN107429390A | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | M·阿尔夫;J·弗朗克;T·阿德尔曼;S·克洛茨 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫涂料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/30 | 分类号： | C23C16/30;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 张双双,刘金辉 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 有机 无机 层压 材料 方法 | ||
1.一种制备层压材料的方法，包括至少两次包含以下的序列：
(a)通过进行3至150个原子层沉积方法的循环来沉积无机层，和
(b)通过进行1至3个分子层沉积方法的循环来沉积包含氮的有机层。
2.根据权利要求1的方法，其中在该分子层沉积方法中使用伯胺来沉积该有机层。
3.根据权利要求1或2的方法，其中在该分子层沉积方法中使用芳族胺来沉积该有机层。
4.根据权利要求1-3中任一项的方法，其中在该分子层沉积方法中使用含有羟基的芳族胺来沉积该有机层。
5.根据权利要求1-4中任一项的方法，其中在该原子层沉积方法中使用含Al化合物来沉积该无机层。
6.根据权利要求1-5中任一项的方法，其中包含(a)和(b)的序列进行至少30次。
7.一种层压材料，包含至少两次的包含以下的层序列：
(a)厚度为0.3至15nm的无机层，和
(b)厚度为0.1至3nm的含氮有机层。
8.根据权利要求7的层压材料，其中该有机层含有呈氧化态-3的氮。
9.根据权利要求7或8的层压材料，其中该无机层包含AlOx(OH)y，其中0≤x≤1.5；0≤y≤3并且2x+y＝3。
10.根据权利要求7-9中任一项的层压材料，其中该层压材料包含该包含至少30次的(a)和(b)的层序列。
11.一种阻挡膜，包含根据权利要求7-10中任一项的层压材料。
12.根据权利要求11的阻挡膜，其中该阻挡膜进一步包含聚合基材。
13.根据权利要求11或12的阻挡膜，其中该阻挡膜进一步包含平坦化层。
14.根据权利要求11-13中任一项的阻挡膜在包封、包装或钝化中的用途。
15.一种电子器件，包含根据权利要求11-13中任一项的阻挡膜。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
