[发明专利]成像装置及相应的成像方法

权利要求书

1.一种成像装置(1)，其特征在于，其包括：

第一微波传感器或第一组微波传感器(2)，每个微波传感器(2)被构造成拾取由位于所述微波传感器(2)的检测区域(8)中的身体或物体发射或反射的电磁辐射；以及

反射器装置(6)，被构造成反射所述第一微波传感器或该第一组微波传感器(2)所能够拾取的电磁辐射；

一个或多个参考发射器装置(22、24)，

其中，所述反射器装置(6)被安装成能够在每个微波传感器(2)的检测区域(8)中移动，以通过所述反射器装置(6)的移动来移动所述检测区域(8)，且其中，所述反射器装置(6)还被构造成使每个微波传感器(2)的检测区域(8)在每个所述参考发射器装置(22、24)上移动。

2.根据权利要求1所述的成像装置(1)，还包括聚焦装置(4)，所述聚焦装置被安装在每个微波传感器(2)的检测区域(8)中，并使来自测量区域(10)的电磁辐射能够被聚焦在每个微波传感器(2)上，且其中，所述反射器装置(6)被定位在所述聚焦装置(4)与每个微波传感器(2)的测量区域(10)之间。

3.根据权利要求1所述的成像装置(1)，其中，所述反射器装置(6)被安装成围绕第一轴线旋转式地运动。

4.根据权利要求1所述的成像装置(1)，包括旋转装置，所述旋转装置被构造成以大于或等于300rpm的旋转速度围绕第一轴线旋转所述反射器装置。

5.根据权利要求3所述的成像装置(1)，其中，所述反射器装置(6)被安装在圆筒(12)中，所述圆筒对于一个或多个所述微波传感器(2)所能够拾取的电磁辐射是透明的。

6.根据权利要求5所述的成像装置(1)，其中，所述反射器装置(6)是平面，且其中，所述圆筒(12)的轴线被安装在所述第一轴线上并在所述反射器装置的平面中延伸。

7.根据权利要求5所述的成像装置(1)，其中，所述反射器装置(6)包括具有两个反射面的平面。

8.根据权利要求7所述的成像装置(1)，包括第二微波传感器或第二组微波传感器(2)；所述第二微波传感器或第二组微波传感器被安装成面向所述第一微波传感器或第一组微波传感器(2)，且其中，所述反射器装置(6)被安装在所述第一微波传感器或第一组微波传感器(2)与所述第二微波传感器或第二组微波传感器(2)之间，且能够在每个微波传感器(2)的检测区域(8)中移动，以通过所述反射器装置(6)的移动来移动所述检测区域(8)。

9.一种微波成像方法，包括：

第一微波传感器或第一组微波传感器(2)，每个微波传感器(2)被构造成拾取由位于所述微波传感器(2)的检测区域(8)中的身体或物体发射或反射的电磁辐射；以及

反射器装置(6)，被构造成反射所述第一微波传感器或该第一组微波传感器(2)所能够拾取的微波辐射，并被安装成在每个微波传感器(2)的检测区域中移动；

其中，所述反射器装置(6)以不移动所述第一微波传感器或第一组微波传感器(2)的方式来移动所述检测区域(8)，且其中，每个微波传感器(2)的检测区域(8)在身体或物体上以及在一个或多个参考发射器装置(22、24)上连续地移动。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述反射器装置(6)包括反射平面，所述反射平面被安装在圆筒(12)中，所述圆筒(12)对一个或多个所述微波传感器(2)所拾取的电磁辐射是透明的，其中，所述圆筒(12)的轴线被安装在所述反射器装置(6)的平面中，且其中，透明的所述圆筒(12)围绕其轴线旋转，以移动所述检测区域(8)。