[发明专利]N2 有效
申请号: | 201680019938.5 | 申请日: | 2016-03-29 |
公开(公告)号: | CN107533000B | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 忠永修;登仓明雄;牟田研二;藤井秀治;津村阳一郎;西宫立享 | 申请(专利权)人: | 日本电信电话株式会社;三菱重工业株式会社 |
主分类号: | G01N21/3504 | 分类号: | G01N21/3504;G01N21/03;G01N21/39;G01N21/61 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | base sub | ||
1.一种N2O分析装置,其特征在于,具备:
照射机构,对未进行除尘处理、除湿处理、减压处理中的任一者的包含N2O、H2O和CO2的常压废气照射激光;
光接收机构,接收对所述废气照射的所述激光;
波长控制机构,将所述照射机构所照射的所述激光的波长控制在3.84μm~4.00μm带域内;以及
N2O浓度演算机构,使用所述光接收机构所接收的所述激光和所述波长控制机构所控制的所述激光利用红外分光法演算N2O浓度。
2.根据权利要求1所述的N2O分析装置,其特征在于,
所述波长控制机构将所述激光的波长控制为3.9034μm~3.9060μm、3.9090μm~3.9116μm或3.9122μm~3.9148μm。
3.根据权利要求1或2所述的N2O分析装置,其特征在于,
所述波长控制机构将所述激光的波长控制为3.9047μm、3.9103μm或3.9135μm。
4.根据权利要求1或2所述的N2O分析装置,其特征在于,
所述照射机构包含非线性光学晶体,基于波长λ1的激光和波长λ2的激光的输入所产生的差频来产生满足1/λ3=1/λ1-1/λ2的波长λ3的激光,并输出该波长λ3的激光。
5.根据权利要求1或2所述的N2O分析装置,其特征在于,
具备测量所述废气的温度的温度测量机构,
所述N2O浓度演算机构还使用所述温度测量机构所测量的所述废气的温度利用红外分光法演算N2O浓度。
6.根据权利要求1或2所述的N2O分析装置,其特征在于,
具备抽出所述废气的抽出机构,
所述照射机构对所述抽出机构所抽出的所述废气照射所述激光。
7.根据权利要求6所述的N2O分析装置,其特征在于,
具备对利用所述抽出机构所抽出的所述废气进行加热的加热机构。
8.一种N2O分析方法,其特征在于,
利用照射机构对未进行除尘处理、除湿处理、减压处理中的任一者的包含N2O、H2O和CO2的常压废气照射波长3.84μm~4.00μm的激光;
接收对所述废气照射的所述激光;以及
使用所接收的所述激光和控制为3.84μm~4.00μm的所述激光利用红外分光法演算N2O浓度。
9.根据权利要求8所述的N2O分析方法,其特征在于,
将利用所述照射机构所照射的所述激光的波长控制为3.9034μm~3.9060μm、3.9090μm~3.9116μm或3.9122μm~3.9148μm。
10.根据权利要求8或9所述的N2O分析方法,其特征在于,
将利用所述照射机构所照射的所述激光的波长控制为3.9047μm、3.9103μm或3.9135μm。
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