[发明专利]用于被污染气体的焚化的辐射式燃烧器

说明书

技术领域

本发明涉及辐射式燃烧器和方法。

背景技术

辐射式燃烧器是已知的，且通常被用于处理来自在例如半导体或平板显示器制造业中所使用的制造加工工具的废气流。在此类制造期间，在从加工工具泵送的废气流中存在残留的全氟化化合物（PFC）和其他化合物。PFC难以从废气中去除，且其到环境内的释放是不期望的，因为已知其具有相对高的温室活性。

已知的辐射式燃烧器使用燃烧以从废气流去除PFC和其他化合物，诸如在EP 0 694 735中所描述的那些。通常，废气流是包含PFC和其他化合物的氮气流。燃料气体与废气流混合，且该气流混合物被输运至由有小孔的气体燃烧器的离开表面侧向环绕的燃烧室内。燃料气体和空气被同时供应到有小孔的燃烧器，以在离开表面处影响无焰燃烧，并且其中，穿过有小孔的燃烧器的空气的量不仅足以消耗至燃烧器的燃料气体供应，而且还消耗注入燃烧室的气流混合物中的所有易燃物。

尽管存在用于处理废气流的技术，但是其中的每一个均具有其自己的缺点。因此，期望提供用于处理废气流的改善的技术。

发明内容

根据第一方面，提供一种用于处理来自制造加工工具的废气流的辐射式燃烧器，所述辐射式燃烧器包括：多个处理室，每一个处理室均具有排出流入口，以将所述废气流的相应部分供应至该处理室以便在其内处理。第一方面认识到，关于现有的辐射式燃烧器配置的问题在于，其不能够容易地缩放以应对不同的排出流速率。也就是说，每一个辐射式燃烧器配置通常被设计为应对特定排出流流动速率，且然后通过测试验证该设计。如果需要处理不同的排出流流动速率，那么通常需要新的设计，然后需要验证该设计。尽管能够重新使用一些标准零件，但是每一个辐射式燃烧器设计因此基本上是独特的，且现有布置的基础架构具有可缩放性限制。

因此，提供燃烧器。燃烧器可以处理可以来自制造加工工具的废气流。燃烧器可以具有多个处理室。那些处理室中的每一个均可以具有接收待在该处理室内处理的一定比例的或者一定量的排出流的入口。以这种方式，可以提供多个处理室，其中每一个处理室处理排出流的一部分。因此，处理室的数量能够被选定为匹配来自任意具体加工工具的废气流的流动速率。这提供一种架构，其能够可靠地缩放以适应任意废气流流动速率的需要。

在一个实施例中，所述多个处理室中的每一个均邻近所述多个处理室中的另一个。因此，处理室可以定位成靠近或接近彼此，以便提供紧凑布置。邻近彼此定位室还可以减少零件总数，因为邻近室可以共享共同的结构。另外，邻近彼此定位处理室可以使得一个室内的燃烧能够传播至邻近室，由此提供在来自单个点燃源的所有室内的可靠燃烧。

在一个实施例中，所述多个处理室布置为一排处理室和处理室的阵列中的一种。因此，取决于约束辐射式燃烧器的尺寸的物理要求，处理室可被设置为单排，或者可被设置为处理室的排和列的矩阵。

在一个实施例中，燃烧器包括分隔一对邻近处理室的分隔结构，所述分隔结构至少部分地限定邻近的每对处理室。因此，分隔或分离结构可以定位成分隔邻近的处理室。以这种方式，邻近处理室可以共享分隔结构，由此提供改善的架构的简单性和减少的零件总数。将认识到的是，分隔结构可以帮助提供分开或分立的邻近处理室，其中每一个邻近处理室均可以单独地加工其废气流的部分。

在一个实施例中，所述多个处理室布置为一排处理室，且每个分隔结构定位在所述排内的邻近的每对处理室之间。因此，在处理室被形成为排的情况下，可以在该排内的邻近处理室之间设置分隔结构。

在一个实施例中，所述排周向地布置。因此，所述排不需要必然是线性排，而是可以非线性地布置，且例如周向地布置。当周向地布置时，处理室的排可以提供完整或部分环。

在一个实施例中，所述多个处理室布置为包括多排处理室的矩阵，且每个分隔结构定位在每一排内的邻近的每对处理室之间。因此，处理室可以设置为阵列。分隔结构还可以定位在该阵列的每一排内的邻近处理室之间。

在一个实施例中，所述多个处理室布置为包括多排处理室的矩阵，且分隔结构定位在每一排内的邻近的每对处理室之间和不同排中的邻近的每对处理室之间两者。因此，处理室可以设置为排和列的阵列，且分隔结构可以定位在每一排内的邻近处理室之间，且也在每一列内的邻近处理室之间。

在一个实施例中，每一排内的所述分隔结构和每一排之间的所述分隔结构垂直地取向。因此，列之间的分隔结构可以定位成垂直于排之间的分隔结构。