[发明专利]光学裸片到数据库检验有效

专利信息
申请号: 201680020114.X 申请日: 2016-04-01
公开(公告)号: CN107454980B 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: K·韦尔斯;李晓春;高理升;罗涛;M·胡贝尔 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 裸片到 数据库 检验
【权利要求书】:

1.一种经配置以检测晶片上的缺陷的系统,其包括:

光学检验子系统,其包括至少光源和检测器,其中所述光源经配置以产生引导到晶片的光,且其中所述检测器经配置以检测来自所述晶片的光且响应于所检测光而产生图像;以及

一或多个计算机子系统,其经配置用于:

基于用于印刷在所述晶片上的设计的信息产生呈现图像,其中所述呈现图像是由所述光学检验子系统针对印刷在所述晶片上的所述设计产生的图像的模拟;

比较所述呈现图像与由所述光学检验子系统产生的所述晶片的光学图像,其中使用光罩将所述设计印刷在所述晶片上;以及

基于所述比较的结果检测所述晶片上的缺陷,

其中所述产生包括:

将用于所述设计的所述信息中的多边形转换成灰阶图像;

通过将偏置校正和边角修圆应用到所述灰阶图像而产生经修改灰阶图像;以及

基于所述经修改灰阶图像和用于印刷在所述晶片上的所述设计的所述信息估计所述晶片的近场。

2.根据权利要求1所述的系统,其中以子像素精确度执行所述转换所述多边形。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述产生进一步包括产生初始呈现图像,其是由所述光学检验子系统基于所述近场和所述光学检验子系统的光学模型而针对印刷在所述晶片上的所述设计产生的所述图像的另一模拟。

4.根据权利要求3所述的系统,其中所述产生进一步包括通过修改所述初始呈现图像以最小化所述初始呈现图像与由所述光学检验子系统产生的所述光学图像之间的差异而从所述初始呈现图像产生所述呈现图像。

5.根据权利要求1所述的系统,其中仅针对印刷在所述晶片上的所述设计中的一或多个区域执行产生所述呈现图像使得未针对所述设计的整体执行产生所述呈现图像。

6.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个计算机子系统包括两个或多于两个计算机子系统,且其中所述两个或多于两个计算机子系统中的至少一个并非包含所述光学检验子系统的工具的部分。

7.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个计算机子系统包括至少一个虚拟检验系统。

8.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个计算机子系统经进一步配置用于基于所述所检测缺陷确定所述光罩是否通过合格性鉴定。

9.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个计算机子系统经进一步配置用于基于所述所检测缺陷确定对所述晶片执行的一或多个工艺步骤的执行。

10.根据权利要求9所述的系统,其中所述晶片是短环晶片。

11.一种经配置以检测晶片上的缺陷的系统,其包括:

光学检验子系统,其包括至少光源和检测器,其中所述光源经配置以产生引导到晶片的光,且其中所述检测器经配置以检测来自所述晶片的光且响应于所检测光而产生图像;以及

一或多个计算机子系统,其经配置用于:

基于用于印刷在所述晶片上的设计的信息产生呈现图像,其中所述呈现图像是由所述光学检验子系统针对印刷在所述晶片上的所述设计产生的图像的模拟;

比较所述呈现图像与由所述光学检验子系统产生的所述晶片的光学图像,其中使用光罩将所述设计印刷在所述晶片上;以及

基于所述比较的结果检测所述晶片上的缺陷,

其中所述产生包括基于用于印刷在所述晶片上的所述设计的所述信息计算所述晶片的近场,且其中用于印刷在所述晶片上的所述设计的所述信息包括几何形状和材料特性。

12.根据权利要求11所述的系统,其中所述产生进一步包括产生初始呈现图像,其是由所述光学检验子系统基于所述近场和所述光学检验子系统的光学模型而针对印刷在所述晶片上的所述设计产生的所述图像的另一模拟。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科磊股份有限公司,未经科磊股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680020114.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top