[发明专利]包含氧化膦基质和金属盐的半导体材料有效

专利信息
申请号: 201680020759.3 申请日: 2016-04-07
公开(公告)号: CN107438908B 公开(公告)日: 2019-06-18
发明(设计)人: 朱莉恩·弗雷;多玛果伊·帕维奇科;乌尔里希·登克尔;维金塔斯·扬库什;卡斯滕·罗特;弗朗索瓦·卡尔迪纳利;卡特娅·格雷斐;乌尔里希·黑格曼;欧姆莱恩·法德尔 申请(专利权)人: 诺瓦尔德股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 刘慧;杨青
地址: 德国德*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 包含 氧化 基质 金属 半导体材料
【权利要求书】:

1.一种半导体材料,其包含:

i)式(I)的化合物:

其中

R1、R2和R3独立地选自C1-C30烷基、C3-C30环烷基、C2-C30杂烷基、C6-C30芳基、C2-C30杂芳基、C1-C30烷氧基、C3-C30环烷氧基、C6-C30芳氧基,以及选自具有通式E-A-的结构单元,

其中

-A为C6-C30亚苯基间隔单元,并且

-E为电子传输单元,其选自C10-C60芳基和包含至多6个独立地选自O、S、P、Si和B的杂原子的C6-C60杂芳基,并且包含具有至少10个离域电子的共轭系统,并且

-至少一个选自R1、R2和R3的基团具有通式E-A-;和

ii)至少一种式(II)的单价金属的复合物:

其中

-M+为携带单一基本电荷的正金属离子,并且

-A1、A2、A3和A4各自独立地选自H、取代或未取代的C6-C20芳基和取代或未取代的C2-C20杂芳基,其中所述取代或未取代的C2-C20杂芳基的含至少5个成环原子的杂芳基环包含至少一个选自O、S和N的杂原子。

2.根据权利要求1所述的半导体材料,其包含:

i)式(I)的化合物:

其中

R1、R2和R3独立地选自C6-C30芳基或C2-C30杂芳基;以及选自具有通式E-A-的结构单元,

其中

-A为C6-C30亚苯基间隔单元,并且

-E为电子传输单元,其选自C10-C60芳基;

其中

-在化合物(I)中,取代基R1、R2和/或R3中的至少一个为苯基,

-至少一个选自R1、R2和R3的基团具有通式E-A-;和

ii)至少一种式(II)的单价金属的复合物:

其中

-M+为锂阳离子(Li+),并且

-A1、A2、A3和A4各自为含至少5个成环原子的杂芳基环,其包含至少一个杂原子N。

3.根据权利要求2所述的半导体材料,其中所述C2-C30杂芳基不含N。

4.根据权利要求2所述的半导体材料,其中A为联苯基。

5.根据权利要求1或2所述的半导体材料,其中在所述化合物(I)中,A为C6-C30亚苯基间隔单元、或C6-C30间亚苯基间隔单元或C6-C30对亚苯基间隔单元。

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