[发明专利]Kakeromycin及其衍生物的制造方法有效
| 申请号： | 201680020805.X | 申请日： | 2016-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN107709335B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 石川彰彦;石见盛太 | 申请（专利权）人： | 海洋规划生物工厂株式会社;株式会社种探索研究所 |
| 主分类号： | C07D498/04 | 分类号： | C07D498/04;C07C225/06;C07C271/18;C07D261/04 |
| 代理公司： | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人： | 关祥宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | kakeromycin 及其 衍生物 制造 方法 | ||
1.式(1)所示的化合物或其盐的制造方法，
式(1)中，
R为式(A)所示的基团，
式(A)中，R1及R2相同或不同，且各自表示C1-20烷基或C7-20芳烷基；
n表示1；
所述方法包括：
使式(2)所示的化合物或其盐进行氧化反应的工序，
式(2)中，R及n与上述同义。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其进一步包括：
使式(3)所示的化合物或其盐进行分子内脱水缩合反应而制造式(2)所示的化合物或其盐的工序，
式(3)中，R及n与权利要求1中定义相同。
3.根据权利要求2所述的制造方法，其进一步包括：
使式(4)所示的化合物或其盐进行分子内加成反应而制造式(3)所示的化合物或其盐的工序，
式(4)中，R及n与权利要求1中定义相同。
4.根据权利要求3所述的制造方法，其进一步包括：
使式(5)所示的化合物或其盐的氨基的酰基保护基进行脱保护反应而制造式(4)所示的化合物或其盐的工序，
式(5)中，R4表示烃基或烃氧基，R及n与权利要求1中定义相同。
5.根据权利要求4所述的制造方法，其进一步包括：
使式(6)所示的化合物或其盐进行还原反应而制造式(5)所示的化合物或其盐的工序，
式(6)中，R及n与权利要求1中定义相同，R4与权利要求4中定义相同。
6.根据权利要求5所述的制造方法，其进一步包括：
使式(7)所示的化合物或其盐与式(8)所示的化合物或其盐进行环化加成反应而制造式(6)所示的化合物或其盐的工序，
式(7)中，n与权利要求1中定义相同，R4与权利要求4中定义相同，
式(8)中，R与权利要求1中定义相同。
7.式(1)所示的化合物或其盐，
式(1)中，
R为式(A)所示的基团，
式(A)中，R1表示C1-20烷基，R2表示C7-20芳烷基；
n表示1，
条件是，
所述式(1)所示的化合物不包括
8.式(2)所示的化合物或其盐，
式(2)中，
R为式(A)所示的基团，
式(A)中，R1及R2相同或不同，且各自表示C1-20烷基或C7-20芳烷基；n表示1。
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