[发明专利]用于纳米粒子生成的设备在审
申请号: | 201680022159.0 | 申请日: | 2016-04-18 |
公开(公告)号: | CN107530721A | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | 查德·詹姆斯·昂劳;詹姆斯·莱昂纳德·赖斯 | 申请(专利权)人: | 纳米蒸汽有限公司 |
主分类号: | B05B7/04 | 分类号: | B05B7/04 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人: | 陈鹏,瞿艺 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 纳米 粒子 生成 设备 | ||
1.一种固体或液体纳米粒子生成设备,包括:
喷嘴,用于从散装液体流形成第一粒子尺寸,所述喷嘴与气流放大器流体连通,其中在所述喷嘴和所述气流放大器之间设置有用于与环境气体流体连通的装置;
所述气流放大器包括:
入口圆锥体,连接到圆柱形壳体的入口并与所述入口流体连通;扩散器,连接到所述壳体的出口并与所述出口流体连通;并且所述壳体包括沿着所述圆柱形壳体的圆周设置的至少两个端口环;以及通过所述端口将压缩气体喷射到所述壳体中的装置。
2.根据权利要求1所述的设备,其中所述喷嘴为双流体、静电、压力喷雾器或超声波喷嘴。
3.根据权利要求1所述的设备,其中所述喷嘴为虹吸或重力供给双流体喷嘴。
4.根据权利要求1所述的设备,其中所述壳体的所述出口与最接近的所述端口环之间以及所述至少两个端口环之间的距离为至少0.5D,其中D为所述圆柱形壳体的喉部直径。
5.根据权利要求4所述的设备,其中所述距离为0.5D至2D。
6.根据权利要求4所述的设备,其中所述距离为0.5D至4D。
7.根据权利要求1所述的设备,其中,在所述壳体的所述出口与最接近的所述端口环之间以及在所述至少两个端口环之间,所述圆柱形壳体的内壁包括粗糙的壁区段。
8.根据权利要求1所述的设备,其中所述喷嘴的出口与所述圆柱形壳体的所述入口之间的距离等于或小于0.5D/TAN(θ/2),其中D为所述圆柱形壳体的喉部直径,并且θ为从所述喷嘴喷出的喷雾的展开角。
9.根据权利要求1所述的设备,进一步包括第二气流放大器,所述第二气流放大器包括:
入口圆锥体,连接到所述圆柱形壳体的所述入口并与所述入口流体连通;扩散器,连接到所述壳体的出口并与所述出口流体连通;其中所述壳体包括用于以引导流进入所述壳体的所述入口中的方式将压缩气体喷射到所述壳体中的至少两个端口环;以及用于将压缩气体供应连接到所述壳体的装置;其中所述第二气流放大器的所述入口圆锥体与所述第一气流放大器的所述扩散器流体连通。
10.一种气流放大器,包括:
入口圆锥体,连接到所述圆柱形壳体的入口并与所述入口流体连通;
扩散器,连接到所述壳体的出口并与所述出口流体连通;其中所述壳体包括用于以引导流进入所述壳体的所述入口中的方式将压缩气体喷射到所述壳体中的至少两个端口环;以及
用于将压缩气体供应连接到所述壳体的装置。
11.根据权利要求10所述的气流放大器,其中,所述壳体的所述出口与最接近的所述端口环之间以及所述至少两个端口环之间的距离为至少0.5D,其中D为所述圆柱形壳体的喉部直径。
12.根据权利要求11所述的气流放大器,其中所述距离为0.5D至4D。
13.根据权利要求10所述的气流放大器,其中在所述壳体的所述出口与最接近的所述端口环之间以及在所述至少两个端口环之间,所述圆柱形壳体的内壁包括粗糙的壁区段。
14.根据权利要求10所述的气流放大器,其中用于将压缩气体供应连接到所述壳体的所述装置由连接到所述至少两个端口环的增压室提供。
15.一种纳米粒子生成系统,包括:
第一喷嘴,适于生成散装液体的雾化粒子;
气流放大器,包括圆柱形壳体,所述圆柱形壳体的一端上设置有圆锥形入口,并且另一端上设置有圆锥形扩散器;并且在所述圆柱形壳体内设置有沿所述圆柱形壳体的圆周以圆形方式布置的至少两个端口环,并且其中所述至少两个端口环隔开至少0.5D的距离,并且其中所述至少两个端口环连接到增压室,所述增压室足以将增压气体排放到所述圆柱形壳体中;以及
其中所述第一喷嘴与所述圆柱形壳体的入口流体连通,并且其中液体从所述第一喷嘴适当地喷出并以使得所述液体雾化、混合、稀释和蒸发的方式喷射到所述圆柱形壳体中,以便形成并保持固体或液体纳米粒子气溶胶。
16.根据权利要求15所述的纳米粒子生成系统,其中所述散装液体具有15达因/厘米至80达因/厘米的表面张力。
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