[发明专利]用于检测定位元件的包覆和非包覆的系统和方法

权利要求书

1.一种定位系统，包括：

定位处理器，其被配置为：

从由导管承载的第一定位元件接收第一定位信号和从由所述导管承载的第二定位元件接收第二定位信号作为输入，其中所述第一定位信号和所述第二定位信号被同时获取；

将所述第一定位信号分解为反映所述第一定位元件在定位场内的位置的第一同相分量和第一正交分量；以及

将所述第二定位信号分解为反映所述第二定位元件在所述定位场内的位置的第二同相分量和第二正交分量；以及

状态检测处理器，其被配置为：

接收所述第一正交分量和所述第二正交分量作为输入；以及

通过比较所述第二正交分量与所述第一正交分量来检测所述第二定位元件是在所述导管的导引器护套的内部还是外部。

2.根据权利要求1所述的定位系统，其中所述状态检测处理器还被配置为在检测到所述第二定位元件位于所述导引器护套内时将所述第一定位元件的状态设置为在所述导引器护套内。

3.根据权利要求1所述的定位系统，其中所述状态检测处理器还被配置为：

利用所述导引器护套外部的第一定位元件确定所述第一定位元件的基准正交分量；以及

通过比较所述第一正交分量和所述基准正交分量来检测所述第一定位元件是在所述导引器护套的内部还是外部。

4.根据权利要求1所述的定位系统，其中所述第一定位元件邻近所述第二定位元件。

5.根据权利要求1所述的定位系统，其中所述状态检测处理器被进一步配置为：当所述第二正交分量与所述第一正交分量之间的比较超过预设量时检测到所述第二定位元件撤回至所述导引器护套内。

6.根据权利要求5所述的定位系统，其中所述状态检测处理器被进一步配置为：当所述第二正交分量与所述第一正交分量之间的比较返回至低于所述预设量时检测到所述第二定位元件从所述导引器护套的再次露出。

7.根据权利要求1所述的定位系统，所述定位处理器被进一步配置为：

从经由所述导引器护套置于所述定位场内的第三定位元件获得第三定位信号，所述第三定位信号包括第三同相分量和第三正交分量；以及

所述状态检测处理器被进一步配置为：

比较所述第二正交分量和所述第三正交分量；以及

基于所述第二正交分量和所述第一正交分量之间的比较以及所述第二正交分量和所述第三正交分量之间的比较来检测针对所述第二定位元件的定位元件/护套状态改变。

8.根据权利要求7所述的定位系统，其中所述状态检测处理器被进一步配置为：当所述第二正交分量和所述第一正交分量之间的比较超过第一预设量以及所述第二正交分量和所述第三正交分量之间的比较超过第二预设量时，检测到所述第二定位元件撤回至所述导引器护套中。

9.根据权利要求1所述的定位系统，其中所述第一定位元件包括尖端电极，以及所述第二定位元件包括近侧邻近所述尖端电极的环形电极。

10.根据权利要求9所述的定位系统，所述状态检测处理器被进一步配置为：

利用所述导引器护套外部的尖端电极建立所述尖端电极的基准正交分量；以及

当所述第一正交分量从所述基准正交分量偏离多于预设量时，检测到所述尖端电极的定位元件/护套状态改变。

11.根据权利要求10所述的定位系统，其中在检测到所述环形电极已经撤回至所述导引器护套时建立所述尖端电极的基准正交分量。

12.根据权利要求10所述的定位系统，其中当所述环形电极在所述导引器护套外部时建立所述尖端电极的基准正交分量。

13.根据权利要求12所述的定位系统，其中当环形电极位于所述导引器护套外部时，所述尖端电极的基准正交分量包括所述第一正交分量的连续平均。