[发明专利]结构物的制造方法

权利要求书

1.一种结构物的制造方法，其为制造具有基材及通过进行温水处理而形成于表面的透明的微细凹凸结构体的结构物的结构物的制造方法，其中，

该结构物的制造方法具有：

第一工序，在所述基材上形成所述透明的微细凹凸结构体的前体膜；

其特征在于，该结构物的制造方法进一步具有：

第二工序，在所述前体膜的表面形成微细凹凸结构；及

第三工序，对形成有所述微细凹凸结构的所述前体膜进行温水处理来形成所述透明的微细凹凸结构体，

在所述第二工序中所形成的所述微细凹凸结构满足下述式I，

ν＜ν₀ 式I

在式I中，ν₀为在第二工序中所形成的微细凹凸结构的空间频率的峰值，

ν为在前体膜的表面不形成微细凹凸结构而在与第三工序中的温水处理相同的条件下进行温水处理时所得到的透明的微细凹凸结构体的空间频率的峰值。

2.根据权利要求1所述的结构物的制造方法，其中，

在所述第二工序中所形成的所述微细凹凸结构的空间频率的峰值ν₀大于5μm^-1。

3.根据权利要求1所述的结构物的制造方法，其特征在于，

在所述第二工序中，微细凹凸结构是周期性的。

4.根据权利要求1所述的结构物的制造方法，其中，

所述第二工序为如下工序，即，在所述前体膜上形成具有多个开口的掩膜，并使用该掩膜溶解所述前体膜的表面的一部分，从而形成所述微细凹凸结构。

5.根据权利要求1所述的结构物的制造方法，其中，

所述第二工序为如下工序，即，在所述前体膜上形成具有多个开口的掩膜，并使用该掩膜剥离所述前体膜的表面的一部分，从而形成所述微细凹凸结构。

6.根据权利要求1所述的结构物的制造方法，其中，

所述透明的微细凹凸结构体以氧化铝水合物为主要成分。

7.根据权利要求6所述的结构物的制造方法，其中，

所述前体膜将选自铝的氧化物、氢氧化物、氮化物或铝中的至少一种以上作为主要成分，并对该前体膜进行温水处理而得到所述氧化铝水合物。

8.根据权利要求6所述的结构物的制造方法，其中，

所述前体膜包含选自ZrO₂、SiO₂、TiO₂、ZnO及MgO中的至少一种以上，且将选自铝的氧化物、氢氧化物、氮化物或铝中的至少一种以上作为主要成分，并对该前体膜进行温水处理而得到所述氧化铝水合物。

9.根据权利要求1所述的结构物的制造方法，其中，

在所述第一工序中具有在所述基材与所述前体膜之间形成中间层的工序。

10.根据权利要求1所述的结构物的制造方法，其中，

所述结构物为在透明基材上具备防反射膜而成的光学部件，所述基材为该透明基材，所述防反射膜在表面具备所述透明的微细凹凸结构体。