[发明专利]成型同步转印用脱模聚酯膜在审

专利信息
申请号: 201680023988.0 申请日: 2016-05-10
公开(公告)号: CN107529335A 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 村中达也;植田将史;舟津良亮 申请(专利权)人: 三菱化学株式会社
主分类号: B44C1/17 分类号: B44C1/17;B29C45/14;B32B27/36
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 成型 同步 转印用 脱模 聚酯
【说明书】:

技术领域

本发明涉及作为用于装饰电气产品和汽车部件等的树脂成型品的成型同步转印片的基材膜有用的成型同步转印用脱模聚酯膜。

背景技术

目前,作为电气化产品和汽车部件等的具有曲面的塑料成型品的装饰方法之一,在成型的同时实施转印印刷的所谓的模内成型法被广泛利用。所谓模内成型法,是预先制作使包括脱模层、表面保护层、印刷层、粘接层等的印刷层叠层在基材膜上的转印片,利用塑料的注射成型时的热和压力进行转印印刷的方法。

近年来,以提高成型品的设计性为背景,关于基材膜,为了提高成型品的印刷鲜明度,需要具有高光泽性的基材膜。

为了实现高光泽性,已知有通过使添加于基材膜表面的颗粒变小、或者降低添加颗粒浓度而使基材膜表面平滑化的方法(参照专利文献1)。然而,在印刷层加工工序中作为转印片卷绕成卷状时,有时因膜的平滑化而使得非加工面和加工面发生粘连。

为了赋予抗粘连性,已知有使添加于膜表层的颗粒变大、或者提高添加颗粒浓度而使膜表面变粗糙这样的方法(参照专利文献2)。然而,在这种情况下,因膜的粗面化而光泽性下降,难以进行精细的印刷。

另外,转印片在成型转印后,在脱模层面与印刷层面之间剥落、分离。

即,在成型转印后,印刷层与成型品的表面粘接而作为产品被取出,脱模层在与基材膜的表面密合的状态下从产品去除。

在目前的转印片中,多数情况是脱模层与基材膜的密合力不充分,或者脱模层与印刷层的脱模性不充分,在成型转印后的转印片剥离工序中,有时脱模层面与基材膜面之间发生剥离,脱模层与印刷层一起残留于成型品的表面(参照专利文献3)。

为了改良脱模层与基材膜的密合力,采用了在基材膜与脱模层之间设置易粘接层而改良基材膜与脱模层的密合性的方法。然而,构成易粘接层的树脂往往为了获得良好的粘接特性而存在使用耐溶剂性低的树脂的倾向。因此,在涂布脱模层时,存在因溶剂而溶解、或者变软后的易粘接层因脱模层涂布工具而部分剥离、脱模层与基材膜的粘接强度下降等的课题。另外,关于叠层有易粘接层的膜,存在膜彼此容易粘合、抗粘连性差、在该膜上进一步设置脱模层时操作性差的情况(参照专利文献3)。

另一方面,使脱模层面与印刷层面的脱模性变得过高时,印刷层容易从脱模层剥落,会发生附着于模具、粘连而向转印片的与印刷层相反的面转移、在印刷层等的叠层加工和转印加工的途中等本来不需要剥离的情况下,有时容易剥落。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2006-264135号公报

专利文献2:日本特开2007-268708号公报

专利文献3:日本特开2006-187951号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是鉴于上述事实而完成的发明,其解决课题的方法在于:提供一种成型同步转印用脱模聚酯膜,其光泽性优异,并且在转印片的加工工序中不发生粘连,进而具有在成型同步转印加工后的转印片剥离工序中维持成型品表面的均匀的光泽性而在脱模层与印刷层的界面能够顺利地剥离的功能。

用于解决课题的方法

本发明的发明人鉴于上述课题而精心研究,结果发现,利用具有特定的构成的聚酯膜,能够容易地解决上述课题,直至完成了本发明。

即,本发明的中心思想在于:提供一种成型同步转印用脱模聚酯膜,其特征在于,在至少由3层构成且在两最外层所含的不活泼颗粒的孔容为1.40ml/g以下的叠层聚酯膜的一面具有脱模层,该脱模层表面的最大高度(SRt)为1700nm以上,脱模层表面的膜长度方向(MD)的60°光亮度为155%以上,脱模层表面的加热前剥离力(A)为2000mN/cm以下,100℃加热后的脱模层表面的剥离力(B)为2500mN/cm以下,加热前后的剥离力的差(B-A)为2000mN/cm以下。

发明效果

利用本发明,能够提供一种精细的印刷优异、转印片的加工工序中不容易发生粘连等不良状况的成型同步转印用脱模聚酯膜,本发明的工业价值非常大。

具体实施方式

关于构成叠层聚酯膜的聚酯,作为二羧酸成分,优选对苯二甲酸,除此之外,还可以包含公知的二羧酸的一种以上作为共聚成分。另外,作为二元醇成分,优选乙二醇,除此之外,还可以包含公知的二元醇的一种以上作为共聚成分。

作为聚合催化剂,可以使用目前公知的材料。例如,可以列举三氧化锑、五氧化锑等锑化合物、锗化合物和钛化合物。

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