[发明专利]排气处理系统在审
申请号: | 201680024240.2 | 申请日: | 2016-02-26 |
公开(公告)号: | CN107532497A | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | K·E·福斯;J·L·莫哈南;K·A·霍尔斯道姆;S·D·沙哈;J·K·霍克默思 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫公司 |
主分类号: | F01N3/20 | 分类号: | F01N3/20;F01N3/28 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 李颖,林柏楠 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 排气 处理 系统 | ||
1.一种用于处理含NOx的发动机排气料流的排气处理系统,其包含:
产生排气料流的发动机;和
包括选择性催化还原制品的催化剂系统,所述选择性催化还原制品包括:包含铁助催化的第一分子筛材料的上游区和包含铜助催化的第二分子筛材料的下游区,其中第一和第二分子筛材料具有双六环单元。
2.权利要求1的排气处理系统,其中所述选择性催化还原制品进一步包含具有轴向长度以及上游端和下游端的基底,其中包含铁助催化的第一分子筛材料的上游区涂布于基底的上游端上且包含铜助催化的第二分子筛材料的下游区涂布于基底的下游端上。
3.权利要求2的排气处理系统,其中所述基底包含流通型整料。
4.权利要求2的排气处理系统,其中所述基底是壁流式过滤器。
5.权利要求2的排气处理系统,其中所述上游区和所述下游区至少部分重叠。
6.权利要求5的排气处理系统,其中涂布所述上游区以使所述上游区至少部分遮住所述下游区。
7.权利要求5的排气处理系统,其中涂布所述下游区以使所述下游区至少部分遮住所述上游区。
8.权利要求2的排气处理系统,其中所述上游区邻接所述下游区。
9.权利要求2的排气处理系统,其中在所述上游区和下游区之间存在间隙。
10.权利要求1的排气处理系统,其中所述铁助催化的第一分子筛材料包含大约0.01重量%至大约10.0重量%铁,按氧化铁计算。
11.权利要求1的排气处理系统,其中所述铜助催化的第二分子筛材料包含大约2重量%至大约5重量%铜,按氧化铜计算。
12.权利要求1的排气处理系统,其中所述上游区在第一基底上,其中第一基底包含第一和第二区域,其中第一区域包含铁助催化的第一分子筛材料且第二区域包含铜助催化的第三分子筛材料,其中第一区域在第二区域之前暴露于排气料流;且其中所述下游区在第二基底上。
13.权利要求1的排气处理系统,其中所述上游区在第二基底上且所述下游区在第一基底上,其中第一基底包含第一和第二区域,其中第一区域包含铁助催化的第四分子筛材料且第二区域包含铜助催化的第二分子筛材料,其中第一区域在第二区域之前暴露于排气料流。
14.权利要求12或13的排气处理系统,其中在第一基底上第一区域邻接第二区域。
15.权利要求12或13的排气处理系统,其中第一区域延伸第一基底的总轴向长度的至少50%。
16.权利要求12或13的排气处理系统,其中第一区域延伸第一基底的总轴向长度的小于50%。
17.权利要求12或13的排气处理系统,其中第一区域延伸第一基底的总轴向长度的小于35%。
18.权利要求1的排气处理系统,其中将所述上游区和所述下游区涂布于同一基底上。
19.权利要求1的排气处理系统,其中将所述上游区涂布于第一基底上并将所述下游区涂布于第二基底上。
20.权利要求19的排气处理系统,其中第一基底包含壁流式过滤器且第二基底包含流通型整料。
21.权利要求2的排气系统,其中所述催化剂系统中的选择性催化还原制品进一步包含顶部洗涂层和底部洗涂层,其中所述底部洗涂层包含直接涂布于基底上的铜助催化的第五分子筛材料,且所述顶部洗涂层包含直接涂布于底部洗涂层上的所述上游区和所述下游区。
22.权利要求1的排气处理系统,其中所述催化剂系统进一步包含位于所述选择性催化还原制品下游的氨氧化催化剂。
23.权利要求22的排气系统,其中所述氨氧化催化剂包含铂族金属和用铜、铁或其组合助催化的分子筛。
24.权利要求1的排气处理系统,其中第一和第二分子筛材料具有选自AEI、CHA和AFX的骨架类型。
25.权利要求24的排气处理系统,其中第一和第二分子筛材料含有CHA骨架类型。
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