[发明专利]真空操作阀有效
申请号: | 201680025110.0 | 申请日: | 2016-03-14 |
公开(公告)号: | CN107532739B | 公开(公告)日: | 2019-11-01 |
发明(设计)人: | 图安·勒 | 申请(专利权)人: | 芙洛玛斯特公司 |
主分类号: | F16K21/20 | 分类号: | F16K21/20;B67D7/48;F04F5/04;F04F5/52 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 谢攀;王春伟 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 操作 | ||
1.一种阀系统,所述阀系统包括:
(a)供水构件;
(b)与所述供水构件连通的阀组件,所述阀组件包括:
(i)可移动的密封构件,所述密封构件能够在打开位置和关闭位置之间移动,在所述打开位置处,水流过所述阀组件;在所述关闭位置处,水被阻止流过所述阀组件;
(ii)压力室,其包括比压力室的开口底端小的外部通气孔,所述外部通气孔配置为允许空气在压力室的底端被再填充水时从压力室中逸出;
(iii)所述压力室中的第一隔膜,其中所述密封构件安装到所述第一隔膜,使得所述第一隔膜的移动导致所述密封构件的移动;
(iv)与所述密封构件连通的第二隔膜;
(v)在所述第一隔膜和所述第二隔膜之间的真空室;以及
(vi)位于可移动的所述密封构件下游的文丘里管,其中所述密封构件具有从所述文丘里管穿过所述真空室的空气通道。
2.根据权利要求1所述的阀系统,还包括:
(c)位于所述阀组件上方的盖子,所述盖子的尺寸被设计为引导水在中空的供水构件的外侧周围向下流动。
3.根据权利要求1所述的阀系统,其中,水流过所述文丘里管降低了所述真空室中的空气压力。
4.根据权利要求1所述的阀系统,其中,所述压力室中的空气压力的降低使得所述第一隔膜将所述密封构件移动到所述打开位置,在该打开位置,水流过所述阀组件。
5.根据权利要求4所述的阀系统,其中,所述压力室中的空气压力的降低是由所述压力室周围的水位下降引起的。
6.根据权利要求1所述的阀系统,其中,所述真空室中的空气压力的降低使得所述第一隔膜将所述密封构件移动到所述关闭位置,在该关闭位置,水不会流过所述阀组件。
7.根据权利要求6所述的阀系统,其中,所述真空室中的空气压力的降低是由水通过所述文丘里管引起的,从而当上升的水位阻塞了所述真空室的通气通道的入口时将空气抽出所述真空室。
8.根据权利要求1所述的阀系统,还包括:
(c)在所述密封构件周围的密封件,所述密封件位于所述文丘里管的入口处。
9.根据权利要求1所述的阀系统,其中,所述阀组件还包括:
(c)在其中容纳所述第一隔膜的上安装件。
10.根据权利要求9所述的阀系统,其中,所述上安装件位于所述压力室的顶端。
11.一种打开和关闭阀的方法,所述方法包括:
(a)降低压力室中的空气压力,从而使第一隔膜偏转,其中所述第一隔膜与所述压力室连通;
(b)通过使所述第一隔膜偏转将阀组件中的密封构件移动到打开位置,其中所述密封构件由所述第一隔膜支撑,从而允许水流过填充阀;
(c)引导水流过所述填充阀中的文丘里管,从而将空气吸入所述第一隔膜和第二隔膜之间的真空室中,从而将所述密封构件保持在所述打开位置;然后
(d)阻塞通入所述真空室的通气管,从而降低所述真空室中的压力,从而使所述第一隔膜偏转,从而使所述密封构件移动到关闭位置,从而阻止水流过所述填充阀;并且
其中,所述压力室中的空气压力由于压力室的外部通气孔而降低,所述外部通气孔比压力室的开口底端小。
12.根据权利要求11所述的方法,其中,通过降低所述压力室周围的液位来降低所述压力室中的空气压力。
13.根据权利要求11所述的方法,其中,通过经由所述密封构件中的内孔抽取空气来降低所述第一隔膜和所述第二隔膜之间的真空室中的空气压力。
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